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投射對象
鎖定
- 中文名
- 投射對象
- 外文名
- Projection object
- 領 域
- 數學
投射對象簡介
若對每個對象
都存在投射對象
及滿射,則稱
有充足投射元。若對每個對象
都存在內射對象
及單射
,則稱
有充足內射元。對於有充足投射元(或內射元)的阿貝爾範疇,可以考慮對象的投射分解(或內射分解)。
[1]
投射對象同調代數
同調代數是數學的一個分支,它研究同調與上同調技術的一般框架。同調代數是一門相對年輕的學科,其源頭可追溯到代數拓撲(單純形同調)與抽象代數(合沖模)在十九世紀末的發展,這兩門理論各自由龐加萊與希爾伯特開創。
同調代數的發展與範疇論的出現密不可分。大致説來,同調代數是(上)同調函子及其代數結構的研究。“同調”與“上同調”是一對對偶的概念,它們滿足的範疇論性質相反(即:箭頭反向)。數學很大一部分的內在構造可藉鏈復形理解,其性質則以同調與上同調的面貌展現,同調代數能萃取這些鏈復形藴含的資訊,並表之為拓撲空間、層、羣、環、李代數與C*-代數等等“具體”對象的(上)同調不變量。譜序列是計算這些量的有力工具。
投射對象阿貝爾範疇
投射對象正合函子
由於正合序列總能拆解為短正合序列,在定義中僅須考慮短正合序列即可。
- 參考資料
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- 1. Awodey, Steve (2010). Category theory (2nd ed.). Oxford: Oxford University Press. p. 33. ISBN 9780199237180. OCLC 740446073.
- 2. Mac Lane, Saunders (1978). Categories for the Working Mathematician (Second ed.). New York, NY: Springer New York. p. 114. ISBN 1441931236. OCLC 851741862.
- 3. T.Y. Lam: Lectures on Modules and Rings, Springer, New York 1999, ISBN 0-387-98428-3
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