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真空鍍膜機
鎖定
- 中文名
- 真空鍍膜機
- 外文名
- vacuum coating machine
- 別 名
- 真空鍍膜設備
- 主要思路
- 採用等離子技術,在真空條件下,製備純度高的金屬膜、化合物膜等
- 適用範圍
- 半導體、顯示、光伏、工具鍍膜、裝飾鍍膜、功能鍍膜等。
真空鍍膜機簡介
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對於濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。
真空鍍膜機使用步驟
真空鍍膜機電控櫃操作
1. 開水泵、氣源。
2. 開總電源。
真空鍍膜機DEF-6B
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鐘後延時及保護燈滅,若後門未關好或水流繼電器有故障,保護燈會常亮。
3. 開高壓,高壓會達到10KV以上,調節束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉電流在1~1.7之間擺動。
真空鍍膜機關機順序
1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時,依次關高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
3. 到50以下時,再關維持泵。
真空鍍膜機適用範圍
2.製表業:可用於錶殼.錶帶的鍍膜、水晶製品。
5、不鏽鋼管和板(各種類型表面)
6、傢俱、燈具、賓館用具。
真空鍍膜機化學成分
真空鍍膜機薄膜均勻性概念
1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕鬆將粗糙度控制在可見光波長的1/10範圍內,也就是説對於薄膜的光學特性來説,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是説要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
2.化學組分上的均勻性: 就是説在薄膜中,化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那麼實際表面的組分並不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜並非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
3.晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題,具體見下。
真空鍍膜機主要分類
一、對於蒸發鍍膜:
厚度均勻性主要取決於:
2、基片表面温度
3. 蒸發功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間,厚度大小。
組分均勻性:
蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由於原理所限,對於非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性:
1。晶格匹配度
2。 基片温度
3。蒸發速率
濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在於濺射速率將成為主要參數之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈衝濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
真空鍍膜機操作程序
真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備説明書
和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標註説明。
① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。
② 打開總電源開關,設備送電。
⑤ 落下鐘罩。
⑥ 啓動抽真空機械泵。
⑦ 開複合真空計電源(複合真空計型號:Fzh-1A)。
a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
⑧ 當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑨ 真空鍍膜機開通冷卻水,啓動擴散泵,加熱40min。
⑪ 等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規管燈絲開關。
a. 發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。
b. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑫ 旋轉發射調節鈕“4”,使高壓真空表“5”內指針指向5。
⑬ 發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。
⑭ 旋轉零點調節鈕“10”,讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。
⑮ 發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。
⑯ 旋轉標準調節鈕“3”,讓高壓真空表“5”內指針指向10。
⑱ 當高壓真空表“5”內指針逆時針移動超過6.7Pa時,開工件旋轉鈕開關,鐘罩內被鍍件PVDF膜轉動。
⑲ 開蒸發鈕開關。把電流分插塞插入蒸發電極分配孔內(設有1、 2、 3、 4孔,可插入任意一孔)。
a. 從視鏡窗口觀察鎢螺旋加熱子的加熱温度顏色變化情況。
b. 當鎢螺旋加熱子顏色變成黃橙色,鋁絲開始熔化時,左手操作擋板鈕,移開鎢螺旋上方擋板。
c. 鋁絲全部熔化蒸發,擋板回原位。
d. 右手旋轉調壓器手輪迴零位。第一次蒸鍍工作完成。
21. 如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度):把電流分插塞撥出插入另一個電極分配孔。重複⑳操作動作。
22. 關閉規管燈絲開關。關閉高壓閥(逆時針轉手柄)。關閉工件旋轉。關閉蒸發。旋轉機械泵鈕至指向擴散泵位置。
23. 低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時間,當沒有氣.聲時,升鐘罩。
24. 鎢螺旋加熱子內加鋁絲。PVDF薄膜調換另一面向下 (原下面已鍍一層鋁膜面向上)。緊固在轉動圓盤上。
25. 落鐘罩。開機械泵。
a. 左下旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
b. 當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時,低壓閥推入。
c. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
d. 當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時,開高壓閥。旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
e. 當低壓真空表“2”內指針順時針移動到指向0.1Pa時,開規管燈絲。
f. 由⑰開始重複操作至⑳ 。
26. PVDF薄膜蒸鍍完鋁層後,按順序關閉規管燈絲、高壓閥、機械泵、擴散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣,充氣完畢後升鐘罩。取出工件,做好鐘罩內清理工作。
a. 落下鐘罩。
b. 開機械泵,抽3~5min,停機械泵。
c. 切斷供電總開關。
d. 1h後再關閉冷卻水。操作全部完成。
27. 正常生產中,如遇到突然停電時,要立即切斷高真空測量,關閉規管燈絲,高壓閥、低壓閥拉出。來電後,先讓機械泵啓動工作3~5min後,再轉入正常生產。