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濺射沉積
鎖定
濺射沉積指用高能粒子轟擊靶材，使靶材中的原子濺射出來，沉積在基底表面形成薄膜的方法。
- 中文名稱
- 濺射沉積
- 英文名稱
- sputtering deposition
- 定 義
- 用高能粒子轟擊靶材，使靶材中的原子濺射出來，沉積在基底表面形成薄膜的方法。
- 應用學科
- 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科）
以上內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公佈
- 中文名
- 濺射沉積
- 釋 義
- 用高能粒子轟擊靶材，使靶材中的原子濺射出來，沉積在基底表面形成薄膜的方法
