選擇比

高選擇比意味着只刻除想要刻去的那一層材料。一個高選擇比的刻蝕工藝不刻蝕下面一層材料（刻蝕到恰當的深度時停止）並且保護的光刻膠也未被刻蝕。圖形幾何尺寸的縮小要求減薄光刻膠厚度 ^[2]  。高選擇比在最先進的工藝中為了確保關鍵尺寸和剖面控制是必需的。特別是關鍵尺寸越小，選擇比要求越高。

對於被刻蝕材料和掩蔽層材料（例如光刻膠）的選擇比SR可通過下式計算：

SR=Ef / Er；

其中，Ef為被刻蝕材料的刻蝕速率，Er為掩蔽層材料的刻蝕速率（如光刻膠），如圖1所示。

根據這個公式，選擇比通常表示為一個比值，一個選擇比差的工藝這一比值可能是1:1，意味着被刻蝕的材料與光刻膠掩蔽層被去除地一樣快，而一個選擇比高的工藝這一比值可能是100:1，説明被刻蝕材料的刻蝕速率為不要被刻蝕材料的（如光刻膠）刻蝕速率的100倍。