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場發射
鎖定
- 中文名
- 場發射
- 外文名
- field emission
- 學 科
- 物理學
場發射簡介
金屬中的自由電子在特定條件下可以發射出來,若用金屬構成陰極並做成極細的針尖狀(曲率半徑為10-4—10-6釐米),在超高真空中(1.3×10-7帕以下)施以數千伏電壓,金屬中的電子即可從陰極冷金屬中發射,這種發射電子的方法稱為場發射。由於金屬的不同晶面發射電子的能力不同,當金屬表面上吸附有其他物質時,也使電子發射能力有變化,因而由熒光屏上觀察到的圖樣會有不同
[2]
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利用場發射可製成場發射顯微鏡(FEM),用於研究氣體原子在針尖表面的吸附、分解和擴散等過程,是表面物理研究的一種方法。場發射也是形成氣體放電的一種方式,稀薄氣體放電管中,陰極在強電場作用下釋放出的電子被加速,撞擊氣體分子,使之電離產生正負離子,維持氣體放電。在產生強脈衝高能電子束的裝置中,通常也使用場發射陰極,能在極短的時間內產生大量的電子。
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場發射應用
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