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勻膠顯影機
鎖定
- 中文名
- 勻膠顯影機
- 用 途
- 用於浸沒式工藝的晶圓表面的去離子水沖洗等
勻膠顯影機一般由四部分組成。第一部分是晶圓盒工作站（wafer cassette station），晶圓盒在這裏裝載到機器上。機械手（robot arm）從晶圓盒中把晶圓抽出來，傳送到工藝處理部分（process block），即第二部分。工藝處理部分是勻膠顯影機的主體，增粘模塊（adhesion enhancement）、熱盤（hot plate）、冷盤（chill plate）、旋塗、顯影等主要工藝單元都安裝在這裏，一個或兩個機械手在各單元之間傳遞晶圓。第三部分是為浸沒式光刻工藝配套的單元，包括晶圓表面水沖洗單元、背清洗單元等。第四部分是和光刻機聯機的接口界面（interface），包括暫時儲存晶圓的緩衝盒（buffer）、晶圓邊緣曝光（wafer edge exposure，WEE）和光刻機交換晶圓的接口等。
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