光刻材料

光刻材料都被安裝在勻膠顯影機上，根據工藝流程的安排，旋塗或噴淋在晶圓上。光刻材料中，最主要的是光刻膠，它是一種光敏感的聚合物。在一定波長的光照下，光子激發材料中的光化學反應，改變其在顯影液中的溶解度。抗反射塗層被塗覆在光刻膠底部或頂部，吸收或抵消來自晶圓襯底的反射光，消除駐波效應。化學溶劑可以用於清洗晶圓邊緣和背面，使之潔淨，不污染機台。 ^[1] 

在193nm浸沒式光刻中，塗覆在光刻膠上的抗水塗層可以隔絕水和光刻膠的直接接觸，既避免水對光刻膠性能的破壞，也避免光刻膠中的成分析出污染光刻機的鏡頭。 ^[1]