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薄膜集成電路

鎖定
薄膜集成電路採用薄膜工藝在藍寶石、石英玻璃、陶瓷、覆銅板基片上製作電路元、器件及其接線,並加以封裝而成。薄膜工藝包括蒸發、濺射、化學氣相澱積等。特點為電阻、電容數值控制較精確,且數值範圍寬,但集成度不高,主要用於線性電路。
中文名
薄膜集成電路
外文名
film integrated circuit
工    藝
薄膜工藝
有源器件
晶體管
學    科
電機工程

薄膜集成電路簡介

薄膜集成電路是將整個電路的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件以及它們之間的互連引線,全部用厚度在1微米以下的金屬、半導體、金屬氧化物、多種金屬混合相、合金或絕緣介質薄膜,並通過真空蒸發、濺射和電鍍等工藝製成的集成電路。薄膜集成電路中的有源器件,即晶體管,有兩種材料結構形式:一種是薄膜場效應硫化鎘或硒化鎘晶體管,另一種是薄膜熱電子放大器。更多的實用化的薄膜集成電路採用混合工藝,即用薄膜技術在玻璃、微晶玻璃、鍍釉和拋光氧化鋁陶瓷基片上製備無源元件和電路元件間的連線,再將集成電路、晶體管、二極管等有源器件的芯片和不使用薄膜工藝製作的功率電阻、大容量的電容器、電感等元件用熱壓焊接、超聲焊接、梁式引線或凸點倒裝焊接等方式,就可以組裝成一塊完整的集成電路。
在同一個基片上用蒸發、濺射、電鍍等薄膜工藝製成無源網路,並組裝上分立的微型元件、器件,外加封裝而成的混合集成電路。所裝的分立微型元件、器件,可以是微型元件、半導體芯片或單片集成電路
按無源網路中元件參數的集中和分佈情況,薄膜集成電路分為集中參數和分佈參數兩種。前者適用範圍從低頻到微波波段,後者只適用於微波波段。 [1] 

薄膜集成電路特點與應用

薄膜集成電路 薄膜集成電路
厚膜混合集成電路相比較,薄膜電路的特點是所製作的元件參數範圍寬、精度高、温度頻率特性好,可以工作到毫米波段。並且集成度較高、尺寸較小。但是所用工藝設備比較昂貴、生產成本較高。
薄膜混合集成電路適用於各種電路,特別是要求精度高、穩定性能好的模擬電路。與其他集成電路相比,它更適合於微波電路。 [1] 

薄膜集成電路主要工藝

薄膜混合集成電路所用基片有多種,最常用的是玻璃基片,其次是微晶玻璃和被釉陶瓷基片,有時也用藍寶石和單晶硅基片。為了實現緊密組裝和自動化生產,一般使用標準基片。
在基片上形成薄膜有多種方法。製造薄膜網路常用物理汽相澱積(PVD)法,有時還用陽極氧化或電鍍法。在物理汽相澱積法中,最常用的是蒸發工藝和濺射工藝。這兩種工藝都是在真空室中進行的,所以統稱為真空成膜法。用這兩種方法,可以製造無源網路中的無源元件、互連線、絕緣膜和保護膜。陽極氧化法可以形成介質膜,並能調整電阻膜的阻值。在製造分佈參數微波混合集成電路時,用電鍍法增加薄膜微帶線的厚度,以減少功耗。 [1] 

薄膜集成電路薄膜材料

薄膜集成電路 薄膜集成電路
在薄膜電路中主要有四種薄膜:導電、電阻、介質和絕緣薄膜。導電薄膜用作互連線、焊接區和電容器極板。電阻薄膜形成各種微型電阻。介質薄膜是各種微型電容器的介質層。絕緣薄膜用作交叉導體的絕緣和薄膜電路的保護層。各種薄膜的作用不同,所以對它們的要求和使用的材料也不相同。
對導電薄膜的要求除了經濟性能外,主要是導電率大,附着牢靠,可焊性好和穩定性高。因尚無一種材料能完全滿足這些要求,所以必須採用多層結構。常用的是二至四層結構,如鉻-金(Cr-Au)、鎳鉻-金(NiCr-Au)、鈦-鉑-金(Ti-Pt-Au)、鈦-鈀-金(Ti-Pd-Au)、-銅-金(Ti-Cu-Au)、-銅-鉻-金(Cr-Cu-Cr-Au)等。
微型電容器的極板對導電薄膜的要求略有不同,常用鋁或鉭作電容器的下極板,鋁或金作上極板。
對電阻薄膜的主要要求是膜電阻範圍寬、温度係數小和穩定性能好。最常用的是鉻硅系和鉭基系。在鉻硅系中有鎳-鉻(Ni-Cr)、鉻-鈷(Cr-Co)、鎳-鉻-硅(Ni-Cr-Si)、鉻-硅(Cr-Si)、鉻-氧化硅(Cr-SiO)、鎳鉻-二氧化硅(NiCr- )。屬於鉭基系的有鉭(Ta)、氮化鉭(Ta2N)、鉭-鋁-氮(Ta-Al-N)、 鉭-硅(Ta-Si)、鉭-氧-氮(Ta-O-N)、鉭-硅-氧(Ta-Si-O)等。
對介質薄膜要求介電常數大、介電強度高、損耗角正切值小,用得最多的仍是硅系和鉭系。即氧化硅(SiO)、二氧化硅、氧化鉭和它們的雙層複合結構: -SiO和 -SiO2。有時還用氧化釔,氧化鉿和鈦酸鋇等。
為了減小薄膜網路中的寄生效應,絕緣薄膜的介電常數應該很小,因而採用氧化硅(SiO)、二氧化硅、氮化硼(BN)、氮化鋁(AlN)、氮化硅等,適合於微波電路。 [1] 

薄膜集成電路薄膜混合電路

薄膜混合電路(HIC)是微電子技術的一個方面,微電子技術主要是微小型電子元件器件組成的電子系統。主要依靠特定的工藝在單獨的基片之上(或之內)形成無源網絡並互連有源器件,從而構成的微型電子電路。薄膜電路以其元件參數範圍寬、精度高、穩定性能好、温度頻率特性好,並且集成度較高、尺寸較小,但工藝設備昂,生產成本高。它與半導體集成電路相互補充、相互滲透,已成為集成電路的一個重要組成部分,廣泛應用於低頻微波電路等眾多領域,對電子設備的微型化起到了重要的推動作用。
薄膜混合集成電路與厚膜混合集成電路相比較,其薄膜混合電路的特點是所製作的元件參數範圍寬、精度高、温度頻率特性好,可以工作到毫米微波段。並且集成度較高、尺寸較小。但是所用工藝設備比較昂貴、生產成本比較高。
薄膜混合集成電路適用於各種電路,特別是要求精度高、穩定性能好的模擬電路。與其他集成電路相比,它更適合於微波電路。 [2] 
參考資料
  • 1.    姜永娜,孫麗麗. 薄膜集成電路合金貼裝常見問題分析[J]. 電子工藝技術,2007,(01):28-30.
  • 2.    劉秦,孫承永. 薄膜混合集成電路關鍵電阻的確定方法[J]. 電子元件與材料,1995,(05):35-37.