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羽裂唇柱苣苔

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羽裂唇柱苣苔(學名:Chirita pinnatifida (Hand.-Mazz.) Burtt)是苦苣苔科、唇柱苣苔屬多年生草本植物。葉均基生;葉片草質,長圓形、披針形或狹卵形,邊緣不規則羽狀淺裂,或有牙齒或呈波狀,兩面疏被短伏毛,葉柄扁,被柔毛。花序有花;花序梗被柔毛;苞片對生,長圓形、卵形或倒卵形,被柔毛;花梗密被柔毛及腺毛。裂片線狀披針形,花冠紫色或淡紫色,雄蕊的花絲着生於距花冠基部,有少數腺毛,花盤環狀,子房及花柱密被短柔毛,被短柔毛。種子褐色或暗紫色,狹橢圓球形,6-9月開花。
分佈於中國廣西、廣東北部、貴州東南部、湖南南部、江西、福建西部、浙江南部和西部。生長在海拔600-1500米的谷林中石上或溪邊。
羽裂唇柱苣苔的全草在中國民間可供藥用,治跌打損傷等症。
(概述圖參考來源:中國自然標本館 [1] 
中文名
羽裂唇柱苣苔
拉丁學名
Chirita pinnatifida (Hand.-Mazz.) Burtt
植物界
被子植物門
雙子葉植物綱
亞    綱
合瓣花亞綱
管狀花目
苦苣苔科
長蒴苣苔族
唇柱苣苔屬
羽裂唇柱苣苔
命名者及年代
(Hand.-Mazz.) Burtt,1960

羽裂唇柱苣苔形態特徵

羽裂唇柱苣苔
羽裂唇柱苣苔(6張)
多年生草本。葉均基生;葉片草質,長圓形、披針形或狹卵形,長3-18釐米,寬1.5-7.8釐米,頂端急尖或微鈍,基部楔形或寬楔形,邊緣不規則羽狀淺裂,或有牙齒或呈波狀,兩面疏被短伏毛,側脈每側3-5條;葉柄扁,長2-10釐米,寬1-4毫米,被柔毛。
花序有1-4花;花序梗長4.5-20釐米,被柔毛;苞片對生,長圓形、卵形或倒卵形,長5-14 (-23)毫米,寬1.5-8(-10)毫米,被柔毛;花梗長5-10毫米,密被柔毛及腺毛。花萼長4-7毫米,5裂至基部;裂片線狀披針形,寬1.2-1.8毫米,邊緣每側有1-2(-3)小齒,被短柔毛。花冠紫色或淡紫色,長3.2-4.5釐米,外面被短柔毛,內面只在上唇之下被柔毛;筒長2-2.8釐米,口部直徑0.9-1.3釐米;上唇長6-10毫米,下唇長12-15毫米。雄蕊的花絲着生於距花冠基部1.4-1.6釐米處,長10-11毫米,在基部之上膝狀彎曲,向上漸變狹,有少數腺毛,花葯長約3.8毫米,下面有疏柔毛或無毛;退化雄蕊着生於距花冠基部1.2-1.5釐米處,長2-4毫米,有疏柔毛。花盤環狀,高0:4-0.6毫米。雌蕊長2.4-3釐米,子房及花柱密被短柔毛,柱頭長3-4毫米,頂端不明顯2淺裂。蒴果長3-4釐米,粗2-3毫米,被短柔毛。種子褐色或暗紫色,狹橢圓球形,長約0.6毫米。花期6-9月。 [2] 

羽裂唇柱苣苔產地生境

分佈於中國廣西、廣東北部、貴州東南部、湖南南部、江西、福建西部、浙江南部和西部。生長在海拔600-1500米的谷林中石上或溪邊。 [2] 
羽裂唇柱苣苔 羽裂唇柱苣苔

羽裂唇柱苣苔繁殖方法

外植體的消毒滅菌:春季取羽裂唇柱苣苔的幼嫩葉片,先用0.1-0.5%洗衣粉溶液浸泡25-30分鐘後在流水下衝洗30分鐘,並用軟毛刷輕輕刷洗葉片,然後轉入超淨工作台進行滅菌操作,先用棉球蘸取75%酒精拭擦葉片表面,無菌水沖洗2次,將葉片在75%酒精中浸泡10秒,無菌水沖洗3次,再用0.1%氯化汞溶液處理6分鐘,無菌水沖洗3次,最後再用0.1%氯化汞溶液處理6分鐘,無菌水沖洗3次,氯化汞滅菌過程中輕輕震盪使氯化汞充分接觸葉片;葉片切成2釐米×2釐米大小,接種在MS培養基,得到無菌葉片;
不定芽的誘導:將獲得的無菌葉片切成1釐米×1釐米大小,並在葉片四周留有切口,接種在不定芽誘導培養基中,經過20-25天的培養,葉片四周的傷口誘導出不定芽;
繼代培養:將獲得的不定芽切取下來,接種在繼代培養基中培養25-30天,得到組培小苗;
生根培養:選取高度為1.5-3.0釐米的組培小苗,接種在生根培養基中培養18-20天,得到組培生根苗。 [3] 

羽裂唇柱苣苔栽培技術

煉苗移栽:將高度為2.5-4.0釐米的生根苗移出培養室後揭去組培瓶蓋在自然條件下煉苗4洗淨培養基移栽到裝有基質的50孔穴盤中;澆透定根水後,將移栽小苗置於有遮陽網的蔭棚下,透光率為40-50%,並採用間歇性噴霧系統控制空氣濕度,每2小時噴霧1次,噴霧時間每次40秒,確保空氣濕度85%以上,早晚澆透水各1次,移栽後7-10天,即可成活。 [3] 

羽裂唇柱苣苔主要價值

羽裂唇柱苣苔的全草在中國民間可供藥用,治跌打損傷等症。 [2] 
參考資料
  • 1.    羽裂唇柱苣苔  .中國自然標本館[引用日期2020-04-04]
  • 2.    中國植物誌編委.中國植物誌,第39卷[M].科學出版社.1990:383
  • 3.    閆海霞,張自斌,卜朝陽,何荊洲,鄧傑玲,黃昌豔. 一種羽裂唇柱苣苔的組織培養方法[P]. 中華人民共和國國家知識產權局:申請公告號CN 106386501 A, 2017.02.15:3-4