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熱退火

鎖定
熱退火工藝提供了一種用於加工基材的方法,所述方法包括:提供具有表面的基材;提供共聚物組合物,所述共聚物組合物包括:聚(苯乙烯)-b-聚(硅氧烷)嵌段共聚物組分,其中聚(苯乙烯 )-b-聚(硅氧烷)嵌段共聚物組分的數均分子量是5到1,000kg / mol;抗氧化劑,其中共聚物組合物包含>2wt%的抗氧化劑,基於嵌段共聚物組分的重量 ;施加上述共聚物組合物的薄膜到基材表面;任選地,烘焙上述薄膜 ;通過在240到35C℃ 和包含> 20wt%02的氣體氣氛下加熱薄膜1秒鐘到4小時來退火上述薄膜;處理上述退火薄膜以從退火薄膜中除去聚(苯乙烯)嵌段和將退火薄膜中的聚(硅氧烷)嵌段轉換成SiOx [1] 
中文名
熱退火
外文名
Thermal annealing
在定向自組裝中的應用:近兩年來,嵌段共聚物定向自組裝( DSA, Directed Self-Assembly of BlockCopolymer)光刻技術作為一種新興的光刻技術越來越受到人們的關注。其原理與之前所敍述的幾種技術有很大不同,是利用嵌段共聚物在熱退火或溶劑退火等條件下分相形成納米結構,以形成的納米結構作為模板對襯底進行刻蝕實現圖形化的一種技術 [2] 
參考資料