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曝光寬容度
鎖定
- 中文名
- 曝光寬容度
- 外文名
- Exposure Latitude
曝光寬容度定義
曝光寬容是指光學曝光系統可以形成符合設計版圖要求的曝光能量範圍。通常使用曝光結果檢測的關鍵尺寸(CD)值的變化量在+/-10%範圍內的曝光能量選擇範圍來定義。即如果抗蝕劑在偏離最佳的曝光劑量的情況下,曝光圖形的線寬變化比較小的,説明該抗蝕劑有較大的曝光寬容度。通常曝光寬容度越大,顯影寬容度也越大。
曝光寬容度表現方式
曝光寬容度常利用微笑曲線(Smile Curve)來表示。
微笑曲線是指反應抗蝕劑中曝光顯影后的關鍵尺寸(CD)的寬度隨不同的曝光量和散焦量之間的變化關係曲線圖,也稱之為泊松曲線(Bossung Curve)
[1]
。曲線族的橫座標為散焦量變化值(中心為0散焦,左右為散焦量的±值);縱座標為曝光劑量變化的百分數(中心是基準曝光劑量值變化量為0%,上下為曝光劑量的±變化值%,即相對於基準曝光劑量的變化值%)。
在CD變化值為0時,為基準曲線,它基本上是基準曝光劑量值附近的一條兩端翹起的比較平直的曲線;在CD值的變化量為+10%時,該曲線在基準曲線的上方,曲線的形狀如笑臉上嘴唇邊緣,中間高,兩邊隨散焦量變化逐漸降低,當散焦量大到一定程度時隨基準曲線的兩端翹起,逐漸接近基準曲線;在CD值的變化量為-10%時,該曲線在基準曲線的下方,曲線的形狀如笑臉下嘴唇邊緣,中間低,兩邊隨散焦量變化逐漸成弧形上升,當散焦量大到一定程度時隨基準曲線的兩端翹起,逐漸接近基準曲線。如果光刻工藝規定CD+/-10%的變化為工藝的允許範圍,則上下兩條微笑曲線“笑臉唇線”所包圍的區域為曝光寬容度區域
[2]
。
曝光寬容度意義
曝光容忍度是光學系統對於劑量變化的一種表徵方式,和投影圖像對比度緊密聯繫
[2]
。
投影圖像的特徵尺寸若具有較差的圖像對比度,將會對劑量變化過於敏感。因此,增加光刻膠的折射率可以導致曝光容忍度的增加。如果光刻膠在偏離最佳曝光劑量的情況下,曝光圖形的線寬變化較小,則説明此光刻膠具有較大的曝光容忍度,曝光容忍度大的膠受曝光能量浮動或不均勻的影響較小
[3]
。
- 參考資料
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- 1. 陳寶欽,微電子學微光刻技術術語, 2015.10
- 2. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography .百度學術.2009[引用日期2019-04-16]
- 3. 崔錚,微納米加工技術及其應用,高等教育出版社,2013.4,30-30
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