曝光量

與輻照量He對應的光度量是曝光量Hv，它定義為物體表面某一面元接收的光照度Ev在時間t內的積分，即

Hv=∫Evdt

Hv的計量單位是勒（克司）秒（lx·s）.。

如果面元上的光照度Ev與時間無關，則上式可簡化為

Hv=Evt

曝光量=照度×時間

照度由光圈決定，而時間由快門控制。光圈大小與快門長短決定了曝光量的多少

因此，曝光量由光圈和快門共同控制

在理想情況下，曝光劑量是一個固定參數，整個硅片都受到均勻一致的光輻照。但在實際生產中，曝光機光源的能量可能會受到外界因素的影響而變化 ^[1]  。

劑量均勻的紫外光對光刻膠的曝光是非常關鍵的，光學光刻中的曝光控制是通過使用劑量監控器在硅片表面測量紫外光強所獲得的。曝光劑量在曝光場的不同位置測量並進行劑量百分比均勻性的計算 ^[2]  。