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套準精度

鎖定
光刻要求硅片表面上存在的圖案與掩模版上的圖形準確對準，這種特性指標就是套準精度。 [1] 
中文名
套準精度
外文名
Overlay Accuracy
對準十分關鍵，因為掩模版上的圖形要層對層準確地轉移到硅片上。當圖形形成要多次用到掩模版時，套準精度過差都會影響硅片表面上不同圖案間總的佈局寬容度。在光刻對電路圖形進行曝光時，應儘量提升套準精度，使套刻誤差在容限範圍內，進而提高光刻工藝質量。 [2] 
參考資料