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魏紅祥
鎖定
魏紅祥,男,漢族, 1975 年生
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,江西九江人。2009年畢業於中國科學院物理研究所。獲理學博士學位。2007 年 7 月就職於中國科學院物理研究所 M02 組,現為副研究員。主要從事自旋電子學方面的基礎研究和應用研究。
- 中文名
- 魏紅祥
- 國 籍
- 中國
- 民 族
- 漢族
- 出生日期
- 1984年
- 畢業院校
- 中國科學院物理研究所
- 性 別
- 男
魏紅祥工作
一、基於納米磁性隧道結的新型磁隨機存儲器(MRAM)的設計與製備。
參與了課題組設計、製備傳統的 MRAM 的全部過程。課題組設計製備的 MRAM 原理型器件全程基於國內力量,實現了 CMOS 的設計與製備、 CMOS 表面金屬層的精細拋光 (CMP) 、磁性隧道結的集成與測試、樣品的健合與封裝、樣品的性能測試等各個環節。測試結果表明主要技術參數均達到了設計指標。特別值得一提的是,在深入研究和製備傳統的 MRAM 的過程中,與同事一起提出了新型的基於納米環形磁性隧道結的新型 MRAM 。製備出直徑為 100 納米、壁寬為 25-30 納米的圓環形磁性隧道結。這是壁寬最窄的圓環形磁性隧道結。實現了電流驅動,驅動電流小於 1 毫安。這一研究成果為高密度 MRAM 的開發提供了一條新的途徑,獲得了國際同行的高度評價。
二、高性能磁性隧道結的製備與研究。
通過優化工藝條件,利用本實驗室的磁控濺射設備製備出磁電阻比值高達 80 %的以氧化鋁為勢壘層的磁性隧道結。這一結果保持着以氧化鋁為勢壘層的磁性隧道結的最好結果。
三、納米結構圖形的設計、製備與研究。
利用聚焦離子束刻蝕 (FIB) 、電子束曝光 (EBL) 、化學反應刻蝕 (RIE) 、氬離子束刻蝕 (AIE) 等微加工設備製備出直徑為 3 - 5 納米的納米接觸。發展了一種新的利用氮化硅薄膜製備納米接觸的新方法。
魏紅祥榮譽
- 參考資料
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- 1. 典贊·2020科普中國·特別報道 .人民網[引用日期2021-04-08]
- 2. 魏紅祥 .中國科學院物理研究所磁學重點實驗室[引用日期2022-05-31]
- 3. 李治中、魏紅祥獲第二屆 “賽先生” 科學和醫學公共傳播獎 .工人日報[引用日期2022-12-20]