高頻放電

放電現象和結果

高頻放電可以產生穩定的大體積的等離子體，因而是等離子體成膜和刻蝕技術中最常用的放電形式。通常所用的電源頻率是13.56兆赫，這是因為國際電訊管理局為了防止高頻電磁波輻射的能量對通信的干擾，對工業用的頻率範圍做了規定，其中包括13.56兆赫這個頻率。但輝光放電的非線性效應可使放電迴路內出現基頻的許多諧波，仍有影響通信的高次頻波從放電迴路中發射出來，在迴路中這些諧波輻射的能量比基頻波輻射的要小得多。 ^[1]