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高密度存儲器

鎖定
一動態隨機存取存儲器(DRAM)集成電路,包含一確定在一半導體基板內的凹陷區域。此凹陷區域具有自一底面延伸的基本上垂直的邊側。一場效三極管經確定以鄰接於該凹陷區域。一包含有下電容器板、電容介電體及上電容器板的電容器結構,確定在該凹陷區域中、該場效三極管上方,藉此提供較大的電容器表面。
中文名
高密度存儲器
外文名
DRAM
類    型
存儲器
特性
一種存儲器裝置,該裝置包括:一半導體基板,包含一凹陷區域,該凸陷區域具有由一底面延伸的側邊;一場效三極管,該場效三極管包括一鄰接於該凹陷區域的源/汲極區域;一絕緣層,覆蓋在該凹陷區域上;一下電容器板,覆蓋在該絕緣層上 ,並位於一部分該場效三極管上方,該下電容器板連接至該源 /汲源區域;一電容器介電體,覆介該下電容器板上;及一上電容器板,覆蓋在該介電層上。