趙立新

學習經歷、工作經歷：1994/09—1998/06，武漢測繪科技大學，光電信息學院，光學儀器系，本科2003/03—2006/09，電子科技大學，光電信息學院，碩士2008/01至今，中國科學院光電技術研究所，副研究員

2008-01~, 中國科學院光電技術研究所, 副研究員

2003-01~2007-12,中國科學院光電技術研究所, 助理研究員

1998-07~2002-12,中國科學院光電技術研究所, 實習研究員 ^[2] 

獲四川省科技進步二等獎一項、三等獎各兩項。 ^[1] 

微電子專用設備研究 ^[2] 

（1） 四川省科技進步三等獎, 三等獎, 省級, 2008

（2） 四川省科技進步二等獎, 二等獎, 省級, 2005

（3） 四川省科技進步三等獎, 三等獎, 省級, 2001 ^[2] 

（ 1 ） 一種紅外成像光學讀出系統的照明裝置, 發明, 2010, 第 2 作者, 專利號: 201010608942.6

（ 2 ） 一種光刻機掩模刀口移動裝置, 發明, 2010, 第 2 作者, 專利號: 201010200465.3

（ 3 ） 一種投影光刻機中的光束穩定裝置, 發明, 2010, 第 5 作者, 專利號: 201010256374.1

（ 4 ） 一種基於相位分佈的單點掩模硅片調平方法, 發明, 2010, 第 3 作者, 專利號: 201010276966.X

（ 5 ） 一種光刻機真空曝光裝置, 發明, 2010, 第 3 作者, 專利號: 201010605511.8

（ 6 ） 一種光刻機真空曝光裝置, 發明, 2013, 第 3 作者, 專利號: ZL201010605511.8

（ 7 ） 一種適用於雙工件台投影光刻機的檢焦裝置, 發明, 2012, 第 3 作者, 專利號: ZL201110216470.8

（ 8 ） 一種二維掃描精密激光曝光系統, 發明, 2010, 第 1 作者, 專利號: ZL200610012094.X

（ 9 ） 一種具有面積微分的球面光刻系統, 發明, 2010, 第 1 作者, 專利號: ZL200810056381.X

（ 10 ） 一種陣列微梁單元偏角測量系統, 發明, 2010, 第 1 作者, 專利號: ZL200810102776.9

（ 11 ） 一種投影光刻物鏡中的鏡片傾斜微調機構, 發明, 2011, 第 1 作者, 專利號: ZL200910237659.8

（ 12 ） 一種用於桌面STEPPER光刻機的投影物鏡, 發明, 2014, 第 3 作者, 專利號: 201410543114.0

（ 13 ） 一種透鏡熱變形對光學系統成像結果影響的分析方法, 發明, 2014, 第 4 作者, 專利號: 201510002637.9

（ 14 ） 基於拼接光柵莫爾條紋相位解調的納米光刻對準方法, 發明, 2014, 第 4 作者, 專利號: 201410085381.8

（ 15 ） 一種用於i線大面積平板投影光刻機的物鏡, 發明, 2015, 第 2 作者, 專利號: 201410076488.6

（ 16 ） 一種投影光刻物鏡中的鏡片偏心微調機構, 發明, 2009, 第 3 作者, 專利號: 200910237660.0

（ 17 ） 基於數字微鏡陣列製作不同深度的多台階光柵的無掩模光刻機, 發明, 2015, 第 3 作者, 專利號: 201510601326.4

（ 18 ） 一種單焦點光子篩, 發明, 2015, 第 5 作者, 專利號: 201510757846.4

（ 19 ） 一種用於光刻系統的單倍雙遠心光刻投影物鏡, 發明, 2015, 第 3 作者, 專利號: 201510862320.2

（ 20 ） 一種基於紫外寬光譜泰伯自成像的光刻系統, 發明, 2015, 第 5 作者, 專利號: 201510758399.4

（ 21 ） 基於紫外寬光譜自成像製備二維週期陣列的光刻方法及裝置, 發明, 2015, 第 5 作者, 專利號: 201510770348.3

（ 22 ） 一種透鏡熱變形對光學系統成像結果影響的分析方法, 發明, 2015, 第 4 作者, 專利號: 201510002637.9

（ 23 ） 一種基於外差干涉和二次衍射效應的光柵位移測量系統, 發明, 2015, 第 3 作者, 專利號: 201510100566.6 ^[2] 

（1） UV spectrum-integral Talbot lithography for amplitude periodic micro-grating fabrication, SPIE, 2016, 通訊作者

（2） High precision locating control system based on VCM for Talbot lithography, SPIE, 2016, 通訊作者

（3） Focal length measurement of a microlens-array by grating shearing interferometry, APPLIED OPTICS, 2014, 第 3 作者

（4） Wafer focusing measurement of optical lithography system based on Hartmann–Shack wavefront testing, Optics and Lasers in Engineering, 2014, 第 3 作者

（5） Design of a projection objective with high numeric aperture and large view field, Proc. SPIE, 2014, 第 3 作者

（6） Model and calibrating of a 5-DOF objective, Proc. SPIE, 2014, 第 3 作者

（7） Study of the influence of the shape of projection lens focal plane on the focus control of advanced lithography, Optik, 2014, 第 3 作者

（8） 基於人機工程學的光刻機嵌入式控制面板界面設計, 機械設計與製造工程, 2014, 第 4 作者

（9） A new synchronization control method of wafer and reticle stage in step and scan lithographic equipment, Optkl, 2013, 第 3 作者

（10） Iterative Learning Control for Synchronization of Reticle Stage and Wafer Stage in Step-and-Scan Lithgraphic Equipment, Proc.SPIE, 2013, 第 3 作者

（11） Synchronous Control Strategy of Wafer and Reticle Stage of Step and Scan Lithography, Proc.SPIE, 2012, 第 3 作者

（12） Tilt-modulated spatial phase imaging method for wafer-mask leveling in proximity lighography, Optics letters, 2010, 第 3 作者

（13） 雙工件台光刻機中的調平調焦技術, 微納電子技術, 2010, 第 2 作者

（14） Phase photon sieves, Journal of Computerized and Theoretical of Nanoscience, 2010, 第 3 作者

（15） Design and application of phase photon sieve, Optik, 2010, 第 3 作者

（16） 基於矢量衍射理論的振幅型光子篩的設計, 光學學報, 2010, 第 3 作者

（17） Focusing and Leveling in Dual Stage Lithographic System, Proc.SPIE, 2010, 第 2 作者

（18） 微懸臂樑陣列成像系統光學特性分析, 四川大學學報, 2009, 第 3 作者

（19） 位相型衍射光學元件設計的混合算法, 光電工程, 2009, 第 3 作者

（20） Fabrication of nanoscale line width using the improved optical maskless lithographic system, Journal of Computerized and Theoretical of Nanoscience, 2009, 第 3 作者

（21） 數字灰度投影光刻技術, 微納電子技術, 2009, 第 1 作者

（22） 球面投影光刻物鏡的設計, 光電工程, 2009, 第 1 作者 ^[2] 

（ 1 ） 高精度投影光刻物鏡結構設計與分析, 主持, 國家級, 2009-01--2016-12

（ 2 ） 雙工件台原理實驗與驗證, 主持, 國家級, 2009-01--2016-12 ^[2] 

李蘭蘭 博士研究生 080402-測試計量技術及儀器

何渝 博士研究生 080300-光學工程

鄧茜 碩士研究生 085202-光學工程

程依光 博士研究生 080300-光學工程

陳楚怡 碩士研究生 085208-電子與通信工程

姚靖威 碩士研究生 080300-光學工程

張紹宇 碩士研究生 085203-儀器儀表工程

劉錫 博士研究生 080402-測試計量技術及儀器

劉江輝 博士研究生 080402-測試計量技術及儀器

羅文韜 碩士研究生 080401-精密儀器及機械

位浩傑 博士研究生 080402-測試計量技術及儀器 ^[2]