袁凱

1982年7月畢業於天津市南開大學物理系，2001年結業於吉林大學在職研究生班。

1982年於瀋陽某微電子研究所參加工作：

1982年~1985年，任離子注入工藝技術員

1985年~1993年，負責蒸發、濺射工藝技術負責。

1991年~1994年，從事器件工程師工作，先後承擔過若干種NMOS、CMOS電路的研製工作，負責器件的工藝設計、工藝串線及工藝調整。

1995年~1999年任研究所芯片研製中心工藝線線長，負責工藝線所有器件（包括NMOS、CMOS、TTL器件）的工藝設計，工藝實施、工藝調整及生產管理。高級工程師

1999年~2001年，任研究所芯片研製中心副主任。研究員

2001年~2006年任研究所芯片研製中心主任。

2006年任研究所副總工師。

2006年任電子科技大學光電信息學院研究員。

十幾年來，先後承接國家及部下達的科研任務有幾十項，開展的基礎工藝研究項目有：

肖特基TTL電路多層電極技術研究；

難熔金屬及硅化物技術研究；

高温定薄膜電阻技術研究；

VLSI高性能LDDMOSFET工藝研究；

特種內存多層多晶結構的生成、及腐蝕工藝研究；

特種內存優質薄層柵氧化特性研究；

抗輻照工藝技術研究；

紅外焦平面雙閾值、雙層多晶工藝技術研究;

現從事研究方向：

MEMS工藝技術研究；

光電集成器件技術研究等。