聚乙烯醇肉桂酸酯

曝光顯影后圖形分辨率好，質量穩定，對二氧化硅、硅、鋁、氧化鉻等材料有良好的附着力，能耐氫氟酸、磷酸腐蝕。廣泛用於製備集成電路、電子元件的光刻工藝，亦適用於印刷線路板、金屬表牌、光學儀器、精密量具等微細圖形的加工

聚乙烯醇與肉桂酰氯在吡啶溶劑中反應制備.

（1）光致抗腐蝕劑,在紫外光照射下聚合，不見光的部分不聚合。曝光顯影后圖形分辨率好，質量穩定，對

二氧化硅、硅、鋁、氧化鉻等材料有良好的附着力，能耐氫氟酸、磷酸腐蝕。

（2）廣泛用於製備集成電路、電子元件的光刻工藝，

（3）適用於印刷線路板、金屬表牌、光學儀器、精密量具等微細圖形的加工.和半導體器件不可缺少的產品。