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產狀

鎖定
是物體在空間產出的狀態和方位的總稱。地質體可大致分為塊狀體和麪狀體兩類。塊狀體的產狀,指的是其大小、形態、形成時所處位置,與周邊關係。
產狀是指構造線或構造面在空間的位態。
中文名
產狀
外文名
occurrence
含    義
面狀體(包含線狀)的產狀
分    類
專有名詞
學    科
地質學

產狀含義

面狀體(包含線狀)的產狀,主要指的是其在空間的延展方位。包含三個要素,即走向、傾向和傾角。一般可用地質羅盤測出。

產狀分類

產狀礦牀產狀

礦體產狀是指礦體在空間上產出的空間位置和地質環境,可從以下幾個方面描述:
礦牀產狀 礦牀產狀
(1)礦牀的空間位置包含側伏角、傾伏角、傾角等要素,其中側伏角指礦體的最大延伸方向(即礦體軸)與走向線之間的鋭夾角; 傾伏角則指礦體的最大延伸方向與其水平投影線之間的鋭夾角。傾角是礦體最大傾斜線與其在水平面上投影線之間的夾角。 [1] 
(2)礦體的埋藏深度:指礦體系出露於地表,抑或隱伏於地下以及礦體埋藏深度如何等。礦體大部分出露地表,或由於產出淺經剝離後可以開採的,稱為露天礦;完全隱伏的稱為隱伏礦,也稱盲礦體。 [1] 
(3)礦體與圍巖層理、片理關係:指礦體是沿圍巖層理、片理整合產出,或者穿切層理、片理。 [1] 
(4)礦體與火成岩的空間關係:指礦體產於巖體內,還是產在接觸帶或位於侵入體的圍巖之中。 [1] 
(5)礦體與地質構造空間關係:指礦體產於何種構造單元中的何種部位,與何種構造類型密切相關。 [1] 

產狀岩層產狀

岩層產狀 岩層產狀
以其在空間的延伸方位及其傾斜程度來確定的。除水平岩層成水平狀態產出外,任何面狀構造地質體界面的產狀均以其走向、傾向和傾角的數據表示,稱為岩層產狀三要素。 [2] 
岩層產狀 岩層產狀
岩層面與水平面的交線或岩層面上的水平線即該岩層的走向線,其兩端所指的方向為岩層的走向,可由兩個相差180°的方位角來表示,如NE30°與SW210°。垂直走向線沿傾斜層面向下方所引直線為岩層傾斜線,傾斜線的水平投影線所指的層面傾斜方向就是岩層的傾向。走向與傾向相差90°。岩層的傾斜線與其水平投影線之間的夾角即岩層的(真)傾角。所以,岩層的傾角就是垂直岩層走向的剖面上層面(跡線)與水平面(跡線)之間的夾角。視傾角也稱假傾角:指在不垂直岩層走向線的任何方向上量得的傾角。視傾角總是小於真傾角。 [2] 
岩層產狀有兩種表示方法:①方位角表示法(地質常用表示法)。一般記錄傾向和傾角 ,如205°∠65°,即傾向為南西205°,傾角65°,其走向則為NW295°或SE115°。②象限角表示法(水電常用表示法)。走向和傾向,以北N或南S放前面,東E或西W方後面來表示,即北東向,北西向,南東向,南西向。具體示例如:N65°W/SW∠25°,即走向為北偏西65°,傾向南西,傾角為25°。 [2] 
走向、傾向及傾角在地質平面圖上可用符號“┠30°”表示,符號中長線方位與走向一致,短線指向與傾向一致,長短線交點應落在測量點位置上,符號旁加註的數字為傾角。 [2] 

產狀直線產狀

直線的產狀是直線在空間的方位和傾斜程度,直線的產狀要素包括傾伏向傾伏角,及其所在平面上的側伏向和側伏角。常見的線狀地質體有:樞紐、線理、流線等。

產狀斷層產狀

以斷層面在空間的延伸方位及其傾斜程度來確定,表達方式與岩層產狀類似。

產狀節理產狀

以節理面在空間的延伸方位及其傾斜程度來確定,表達方式與岩層產狀類似。

產狀岩漿岩產狀

指的是巖體的形狀、大小、與圍巖接觸關係、形成環境。
岩漿岩侵入體的產狀根據巖體的形狀可分為以下幾類:
岩牀—侵入體為板狀或層狀(常為基性)。
巖牆和岩脈—與圍巖岩層斜交的脈體。
岩基—規模較大的侵入岩體。
巖株—規模比岩基小的深成侵入岩體。
巖盆—平面上呈圓形,頂底面下凹。
巖盤<巖蓋>—上凸下凹。 [2] 

產狀測量方法

羅盤 羅盤
(1)羅盤
測量走向時,使羅盤的長邊(即南北邊)緊貼層面,將羅盤放平,水準泡居中,讀指北針所示的方位角,就是岩層的走向。測量傾向時,將羅盤的短邊緊貼層面,水準泡居中,讀指北針所示的方位角,就是岩層的傾向。由於岩層的傾向只有一個,所以在測岩層的傾向時,要注意將羅盤的北端朝向岩層的傾斜方向。測傾角時,需將羅盤橫着豎起來,使長邊與岩層的走向垂直,緊貼層面,待傾斜器上的水準泡居中後,讀懸錘所示的角度,即為傾角。 [2] 
一般情況下,走向默認讀北針。有一種特殊情況,就是岩層面是朝下的,就是你是仰頭測的岩層產狀(岩層像紙張一樣,有正反兩面,正面朝天,反面朝地,一般情況下都是讀朝天的面),這個時候要讀南針(相當於讀岩層另一面的傾向)。帶銅絲的那個是北針,因為中國位於北半球,所以北針吸引力大,就需要纏繞銅絲。 [2] 
(2)電子測量裝置
2017年2月6日,中國地質調查局成都地質調查中心的李鵬嶽、倪化勇和鄧國仕申請了一種地質體產狀的電子測量裝置 [3]  的實用新型發明專利,並於2017年8月22日獲得專利授權。
該實用新型涉及地質測量技術領域,公開了一種地質體產狀的電子測量裝置,其不但可以通過同側配置的兩激光測距傳感器來放大地質體層面的測量區域,解決因層面局部凹凸不平所帶來的問題,提高測量結果的精度,還可以通過內置的姿態傳感器實現電子測量裝置的任意姿態測量,並通過數據處理快速輸出測量結果,省時省力,提升用户體驗。此外,所述電子測量裝置還具有“一鍵化”測量、放大比例可調、無線通信及定位、環境氣味採集及毒氣報警和氣壓及高度數據採集等功能,便於實際推廣和應用 [3] 
參考資料