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物理氣相沉積法
鎖定
- 中文名
- 物理氣相沉積法
- 沉積類型
- 真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍等
物理氣相沉積法方法簡介
各種沉積技術的不同點主要表現為在上述三個環節中能源供給方式不同，同一氣相轉變的機制不同，氣粒子形態不同，氣相粒子荷能大小不同，氣相粒子在輸運過程中能量補給的方式及粒子形態轉變不同，鍍料粒子與反應氣體的反應活性不同，以及沉積成膜的基體表麪條件不同而已。
物理氣相沉積法特點
與化學氣相沉積相比，主要優點和特點如下：
I)鍍膜材料廣泛，容易獲得:包括純金屬、合金、化合物，導電或不導電，低熔點或高熔點，液相或固相，塊狀或粉末，都可以使用或經加工後使用。
2)鍍料汽化方式:可用高温蒸發，也可用低温濺射。
3)沉積粒子能量可調節，反應活性高。通過等離子體或離子束介人，可以獲得所需的沉積粒子能量進行鍍膜，提高膜層質量。通過等離子體的非平衡過程提高反應活性。
4)低温型沉積:沉積粒子的高能量高活性，不需遵循傳統的熱力學規律的高温過程，就可實現低温反應合成和在低温基體上沉積，擴大沉積基體適用範圍。可沉積各類型薄膜:如金屬膜、合金膜、化合物膜等。
5)無污染，利於環境保護。
物理氣相沉積技術已廣泛用於各行各業，許多技術已實現工業化生產。其鍍膜產品涉及到許多實用領域。
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