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李鑄國

鎖定
李鑄國 [1] 上海交通大學材料科學與工程學院教授。1972年9月出生。1994年畢業於上海交通大學,獲雙學士學位;1997年同校獲碩士學位,並留校工作。
曾任上海交通大學材料科學與工程學院副院長。
中文名
李鑄國
國    籍
中國
出生日期
1972年
畢業院校
上海交通大學

李鑄國人物簡介

2001-2004年留學日本大阪大學,獲博士學位。2005-2007年作為日本學術振興會特別研究員(JSPS FELLOW)在日本近畿大學和大阪大學從事合作研究。主要從事激光焊接與表面工程方面的研究。獲上海市科技進步獎一等獎1項,上海市發明專利獎一等獎1項,中國機械工業科技進步獎三等級1項。在國內外刊物發表論文50多篇。

李鑄國職務任免

2024年4月22日,上海交通大學材料科學與工程學院副院長任免宣佈會在徐祖耀樓A500報告廳召開,李鑄國同志免去其材料科學與工程學院副院長職務。 [3] 

李鑄國代表性論著

1.Z.G. Li, S. Miyake, Characteristics of N-doped TiO2 thin films grown on unheated glass substrate by inductively coupled plasma assisted dc reactive magnetron sputtering, Applied Surface Science, 255(2009)9149.
2.Z.G. Li, Y.X. Wu, S. Miyake, Metallic sputtering growth of high quality anatase phase TiO2 films by inductively coupled plasma assisted DC reactive magnetron sputtering, Surface and Coating Technology, 203 (2009) 3661.
3.J.M. Ni, Z.G. Li, Y. Cai, J. Huang, Y.X. Wu. Mechanical Property and Microstructure of HSLA Steel Laser Hybrid Welded Joint. 62nd IIW Annual Assembly and International Conference. Singapore, July 2009.
4.Z.G. Li, S. Miyake, M. Makino, Y.X. Wu, Metallic sputtering growth of crystalline titanium oxide films on unheated glass substrate using inductively coupled plasma assisted direct current magnetron sputtering, Thin Solid Films, 517 (2008) 699.
5.Z.G. Li, Y.X. Wu, S. Miyake, High-flux ion irradiation with energy of ~20 eV affecting phase segregationand low-temperature growth of nc-TiN/a-Si3N4 nanocomposite films, Journal of Vacuum Science and Technology A 25 (2007) 1524.
6.Zhuguo LI, Shoji MIYAKE, Yixiong WU, Effect of Low-Energy Ion Flux Irradiation on Synthesis of Superhard Nanocomposite Films, Japanese Journal of Applied Physics, 45 (2006) 7866.
7.Zhuguo LI, Shoji MIYAKE, Yixiong WU, Effects of copper doping on structure and properties of TiN films prepared by magnetron sputtering assisted by low energy ion flux irradiation, Japanese Journal of Applied Physics, 45 (2006) 5178.
8.Z.G. Li, M. Mori, S. Miyake, M. Kumagai, H. Saito and Y. Muramatsu,Structure and properties of Ti–Si–N films prepared by ICP assisted magnetron sputtering, Surface and Coatings Technology, 193 (2005) 345. [2] 
參考資料