-
曝光機
鎖定
- 中文名
- 曝光機
- 外文名
- Exposure machine
- 出射光強範圍
- 8mW/cm2~40mW/cm2
- 應用對象
- 半導體、微電子、生物器件等
曝光機組成機構
UV燈構造
監視器
掩膜夾具
UV燈透鏡
UV燈鏡片
UV燈電源系統
操作控制器
350W UV燈
晶片台
基底尺寸 標準尺寸 最大至4英寸;可選最大至6英寸;
托盤 標準尺寸 最大至4英寸;可選最大至6英寸;
活動範圍:X:10mm Y: 10mm Z : 10mm Theta: 4 degree
擠入補償 Air bearing型
Z軸滑動 手動
真空泵 無油真空泵
掩膜台
掩膜夾具類型 真空吸附和機械夾取
均勻光束大小 4.25“ X 4.25“
支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光
接觸式曝光特徵尺寸:
0.35 um@深紫外DUV:
0.5um@近紫外NUV;
0.6um@紫外UV;
接近式曝光特徵尺寸:
1um @ Gap為20 um;
2um @ Gap為50 um;
曝光機用途
更廣範圍(UV,DUV,NUV)的紫外光波長選擇,出射光強範圍: 8mW/cm2~40mW/cm2
支持恆定光強或恆定功率模式
廣泛應用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領。
常見曝光機舉例:MYCRO美國製造的恩科優(N&Q)紫外曝光系統,適用於從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣範圍材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系統成功地應用於半導體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學,微機電系統,凹凸或覆晶設備和其他要求精細印製和精度對準的應用。