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保護基團
鎖定
保護基團定義
保護基團具體應用
保護醇類 ROH 的方法一般是製成醚類 (ROR′) 或酯類(ROCOR′)，前者對氧化
劑或還原劑都有相當的穩定性。
保護基團形成甲醚類
可以用鹼脱去醇ROH質子，再與合成子 +CH3作用，如使用試劑NaH /
Me2SO4。也可先作成銀鹽 RO-Ag+ 並與碘甲烷反應，如使用 Ag2O / MeI；但對
三級醇不宜使用這一方法。醇類也可與重氮甲烷CH2N2，在Lewis酸（如BF3·Et2O）催化下形成甲醚.
脱去甲基保護基，回覆到醇類，通常使用Lewis酸，如BBr3及Me3SiI，
也就是引用硬軟酸鹼原理（hard-soft acids and bases principle），使氧原
子與硼或硅原子結合（較硬的共軛酸），而以溴離子或碘離子（較軟的共軛鹼）
將甲基（較軟的共軛酸）除去。
保護基團形成叔丁基醚類
醇與異丁烯在Lewis 酸催化下製備。叔丁基為一巨大的取代基（bulkygroup），脱去時需用酸處理
3.
保護基團形成苄醚
製備時，使醇在強鹼下與苄溴 (benzyl bromide)反應，通常以加氫反
應或鋰金屬還原，使苄基脱除，並回復到醇類。
4. 形成三苯基甲醚 (ROCPh3)
製備時，以三苯基氯甲烷在吡啶中與醇類作用，而以 4-二甲胺基吡啶
（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）為催化劑。
5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3
製備時，使用甲氧基氯甲烷與醇類作用，並以三級胺吸收生成的HCl。
甲氧基甲醚在鹼性條件下和一般質子酸中有相當的穩定性，但此保護基團可用強
酸或Lewis酸在激烈條件下脱去。
7. 形成四氫吡喃 ROTHP
製備時，使用二氫吡喃與醇類在酸催化下進行加成作用。欲回收恢復到
醇類時，則在酸性水溶液中進行水解，即可脱去保護基團。有機合成中常引用這
種保護基團，其缺點是增加一個不對稱碳（縮酮上的碳原子），使得NMR譜的解
析較複雜。
8. 形成叔丁基二甲硅醚 ROSiMe2（t-Bu）
製備時，用叔丁基二甲基氯硅烷與醇類在三級胺中作用，此保護基比三
甲基硅基穩定，常運用在有機合成反應中，一般是F-離子脱去。
9. 形成乙酸酯類 ROCOCH3
脱去乙酸酯保護基可使用皂化反應水解。乙酯可與大多數的還原劑作
用，在強鹼中也不穩定，因此很少用作有效的保護基團。但此反應的產率極高，
操作也很簡單，常用來幫助決定醇類的結構。
10 形成苯甲酸酯類 ROCOPh
苯甲酸酯需要較激烈的皂代條件。
