上海微電子裝備有限公司

公司致力於以極致服務，造高端產品，創卓越價值，全天候、全方位、全身心地為顧客提供優質產品和技術支持與服務。

公司已通過ISO27001信息安全、ISO9000質量管理和ISO14001環境管理等體系的國際認證，力求為客户提供持續 、穩定、高品質的產品和服務，並履行一個優秀的高科技企業的社會責任。

公司已建立了一整套與高科技企業相適應的知識產權管理體系與機制，是全國企事業知識產權示範創建單位和上海市專利工作、知識產權示範企業

600掃描光刻機系列—前道IC製造

基於先進的掃描光刻機平台技術，提供覆蓋前道IC製造90nm節點以上大規模生產所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率節點要求的ArF、KrF及i-line步進掃描投影光刻機。該系列光刻機可兼容200mm和300mm硅片。

500步進光刻機系列—後道IC、MEMS製造

基於先進的步進光刻機平台技術，提供覆蓋後道IC封裝、MEMS/NEMS製造的步進投影光刻機。該系列光刻機採用高功率汞燈的ghi線作為曝光光源，其先進的逐場調焦調平技術對薄膠和厚膠工藝，以及TSV-3D結構等具有良好的自動適應性，並通過採用具有專利的圖像智能識別技術，無需專門設計特殊對準標記。該系列設備具有高分辨率、高套刻精度和高生產率等一系列優點，可滿足用户對設備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產需求。

200光刻機系列—AM-OLED顯示屏製造

200系列投影光刻機綜合採用先進的步進光刻機平台技術和掃描光刻機平台技術，專用於新一代AM-OLED顯示屏的TFT電路製造。該系列光刻機不僅可用於基板尺寸為200mm × 200mm的工藝研發線，也可用於基板尺寸為G2.5(370mm × 470mm)和G4.5(730mm × 920mm)的AM-OLED顯示屏量產線。

硅片邊緣曝光機系列——芯片級封裝工藝應用

SMEE開發的硅片邊緣曝光機提供了滿足芯片級封裝工藝中對硅片邊緣進行去膠處理的能力，設備可按照客户要求配置邊緣曝光寬度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。設備同時兼容150mm、200mm和300mm等三種不同規格的硅片，邊緣曝光精度可到達0.1mm。設備配置了高功率光源，具有較高的硅片面照度，提高了設備產率。

精密温控系列—光刻機、刻蝕機應用

SMEE為集成電路行業提供多種超/高精度温度控制裝置，可分別用於半導體前道設備中的掃描光刻機和各種用途的刻蝕機等設備的精密温度控制，也可應用於精密光學、儀器、精密機牀製造及各種科學實驗場所。温度精度可達0.01℃，控温範圍可達-30℃至90℃。

精密温度控制解決方案

SMEE提供各種類型的超高精度温度控制全面解決方案，可按客户具體需求提供從設計、製造、安裝、調試到維護的一條龍服務，可應用於光學鏡頭、光柵、精密元件、精密儀器和精密機牀製造等領域，尤其適合於材料提純、測試、測量和定位定準等各種科學實驗場合。

上海微電子裝備有限公司自成立以來，一直致力於貫徹公司的人才發展戰略：根據員工的能力、特長進行員工的職業生涯發展規劃，通過科學、規範的管理和不斷創新， 努力為員工搭建充分展示個人才華的舞台，讓所有加入 SMEE 的員工能充分發掘自己的潛力，成就個人事業，創造人生價值。伴隨着公司實力的不斷壯大，團隊建設水平的不斷提升，實現員工與公司的共同成長。

公司擁有一支500多人的多學科、高技術的人才隊伍和完善的產品開發手段和設備，以及支撐微電子裝備研發的光學、機械、電氣控制、微環境等多學科軟硬件測控技術平台，可進行集成電路關鍵設備—光刻機的設計、製造集成、測試和工藝試驗，技術涉及光學、結構、動力學、精密運動和控制、軟件工程、精密測量、微環境控制等眾多領域。

公司依託國內高等學府優勢人力資源，積極吸引國外先進智力，堅持系統工程的研發理念，通過加強與國內外優秀公司、學術機構的強強聯合和優勢互補，積極參與國際性的學術和技術交流活動，努力培養一支理念先進、方法科學、視野開闊的國際化人才團隊及相適應的高技術研發工程能力。

上海微電子裝備有限公司在為員工創造了理想職業家園的同時，為員工提供了富有競爭力的薪酬體系和福利待遇，並對特別優秀的員工採用靈活多樣的激勵措施，形成與崗位同具挑戰性的薪資報酬。此外，公司廣泛開展豐富多彩的業餘文化生活，調動了員工的積極性和提高了員工的工作熱情。

2022年2月7日，上海微電子舉行首台 2.5D / 3D 先進封裝光刻機發運儀式，這標誌着中國首台 2.5D / 3D 先進封裝光刻機正式交付客户。 ^[1]