μm

微米（Micrometre）是長度單位，符號µm。1微米相當於1米的一百萬分之一（10，此即為“微”的字義）。此外，在ISO 2955的國際標準中，“u”已經被接納為一個代替“μ”來代表10的國際單位制符號。微米是紅外線波長、細胞大小、細菌大小等的數量級。

1 000 000皮米(pm) = 1 微米(μm)

1 000納米(nm) = 1 微米(μm)

1毫米（mm）=1000微米（μm）

0.001 毫米(mm) = 1 微米(μm)

0.000 1釐米(cm) = 1 微米(μm)

0.000 01分米(dm) = 1 微米(μm)

0.000 001米(m) = 1 微米(μm)

0.000 000 001公里(km) = 1 微米(μm)

0.000 001 微米(μm) = 1 皮米(pm)

0.001 微米(μm) = 1 納米(nm)

1 000 微米(μm) = 1 毫米(mm)

10 000 微米(μm)= 1 釐米(cm)

100 000 微米(μm) = 1 分米(dm)

1 000 000 微米(μm) = 1 米(m)

1 000 000 000 微米(μm) = 1 公里(km)

微米技術用於界定物理特徵尺寸接近1μm（10^-6m）的體系。20世紀60年代後期，研究人員實現了機械裝置的小型化和批量製作，這項技術給機械領域帶來的進步，就像集成電路技術給電子領域帶來的一樣。微米技術也稱為微機電系統( MEMS)，其始於1969年美國西屋(Westinghouse)公司設計的諧振柵—場效應晶體管。接下來的十年中，一些製造廠商開始使用體硅蝕刻技術生產壓力傳感器。技術上的突破一直持續到20世紀80年代初，使用新型多晶硅表面微加工技術來製造用於磁盤驅動磁頭的驅動器。到了80年代後期，MEMS器件的潛力被認可，開始廣泛應用於微電子和生物醫藥工業領域。25年中，MEMS已經從技術好奇心的領域來到了充滿商業潛力的世界。今天，MEMS器件在汽車安全氣囊、噴墨打印機、血壓監測儀、投影顯示系統以及空間系統中均成為核心部件，已經展現出廣泛的用途。可以預見，在不遠的將來，這些MEMS器件將像微電子產品一樣普及。 ^[2] 

當今微電子技術發展的顯著特點是電子器件的幾何尺寸日趨微細化，而進入亞微米和毫微米範圍，電路的集成度迅速增長跨入超超大規模階段，MOS存儲器的發展往往作為半導體技術發展的一種度量尺度，而動態隨機存取存儲器(DRAM)在功能密度，電路的革新和製造工藝的成熱程度上又都處於領先地位，它的迅速發展受到廣闊的市場需求，電路技術的穩固發展和微細加工技術不斷改進等諸因素的推動。每個芯片集成位數差不多每三年增長4倍，器件的設計規則相應以0.7倍的速率縮小，芯片面積至少以1.5或2倍的速度增長，芯片所含最小圖形數差不多以4倍速度增長。根據最近的報導，日本松下電器公司已研製成最小線寬為0.5微米和芯片面積約100平方毫米的16 MB DRAM，每個芯片集成的元件數為3500萬個。隨着微電子器件幾何尺寸不斷縮小，電路封裝密度的增加，微細或超微細加工技術的發展在微電子技術研究和生產的發展中佔有越來越重要的地位。器件尺寸的微細化，根據等比例縮小的原則不僅是橫向尺寸縮小,其縱向尺寸也要相應縮小，封裝密度增加，電路將向三維結構發展，因此，微電子技術發展對超微細加工技術的需求不僅僅是光刻技術，也涉及到一系列其他技術諸姐薄膜或超薄膜的生長和性能控制，離子注入淺結形成和快速熱處理技術，微細圖形刻蝕和剖面控制等。 ^[3] 

作為精密機械的基礎技術，超微米技術是在一些重要工業部門的推動下發展起來的。例如，大型天文望遠鏡的拋物面反射鏡，用金剛石車刀直接車削時，要求加工出幾何精度高於1/10光波波長的表面，即幾何形狀誤差小於0.05微米或2微時。大規模集成電路的生產、超大規模集成電路的研製，要求光刻的線紋寬度由1微米逐步縮小到0.1~0.2微米，相當於一個數量級l這不但要求嚴格的恆温、恆濕、恆氣壓和防塵、防振、防磁的超淨環境，而且要求圖形的對準精度、基準線紋的精度比上述數字還高出一個數量級。在計算機外圍設備的生產中，大容量磁鼓和磁盤的製造是一個突出的例子。為了保證磁頭與磁盤在工作過程中維持1微米以內的浮動氣隙，就必須嚴格控制磁盤或磁鼓在高速回轉下的跳動量。

另一方面，我們必須打破把精密機械看作是十分狹隘的、單純精密加工的觀點。今天，精密機械已經成為一個內容十分廣闊的邊界工藝學科。電子束制板、軟X射線曝光、乃至微細圖形對準技術等等，事實上早巳突破了古典的精密加工的範疇。可以這樣説，超微米技術是許多學科向精密機械領域滲透的結果。固體物理、電子光學、自動控制等等，都在超微米技術中找到了用武之地，更不用説一般的電子學和應用光學了。以刻線技術為例，從五十年代初期起，短短三十多年中，就經歷了三個階段。機械刻線、光刻和電子束刻線。固然，機械刻線的方法至今仍然到處可見，但作為集成電路生產的主流已經廣泛採用光刻，電子束刻線技術在集成電路和集成光學器件的生產中也有了越來越廣泛的應用。

由此可見，超微米技術既是許多現代工業部門的共同基礎，又是許多學科在精密機械領域中滲透的結果。因此，從理論上和實踐上認真總結各項超微米技術，具有極為重要的意義。 ^[4]