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SOI材料

鎖定
SOI材料是“絕緣體上硅”材料的簡稱。
中文名
SOI材料
外文名
Silicon-on-insulator
適    應
高速CMOS電路
特    點
低源/漏電容,耦合作用小,避免閂鎖效應

目錄

SOI材料功能

這類材料是為了適應航空航天電子、導彈等武器系統的控制和衞星電子系統的需求而發展起來的。SOI材料具有以下突出優點:1、低功耗;2、低開啓電壓;3、高速;4、提高集成度;5、與現有集成電路完全兼容且減少工藝程序;6、耐高温;7、抗輻照從而減少軟件誤差。這些優點使得SOI技術在絕大多數硅基集成電路方面具有極其廣泛的應用背景,從而受到世界各大集成電路製造商和各國政府的高度重視,被國際上公認為“21世紀的硅基集成電路技術”。

SOI材料發展歷史

SOI是“Silicon-on-insulator”的簡稱,中文譯為“絕緣體上硅”。國際上公認,SOI是21世紀的微電子新技術之一和新一代的硅基材料,無論在低壓、低功耗電路、耐高温電路、微機械傳感器、光電集成等方面,都具有重要應用。
上世紀90年代末,IBM大規模開展SOI技術的民用化,SOI被廣泛用於超速計算機服務器中,同時帶動國際上一批著名的跨國公司進入這項技術的開發。目前SOI技術已開始在世界上被廣泛使用,SOI材料約佔整個半導體材料市場的30%左右,預計到2010年將佔到50%左右的市場。Soitec公司(世界最大的SOI生產商)的2000年~2010年SOI市場預測以及2005年各尺寸SOI硅片比重預測了產業的發展前景。
2008年12月,在上海新傲科技有限公司研發平台上,通過技術創新,製備出我國第一片8英寸鍵合SOI晶片,實現了SOI晶片製備技術的重要突破。
SOI絕緣硅英國ICEMOS代理—北京特博萬德公司
英國ICEMOS公司SOI硅片—北京特博萬德公司
進口SOI硅—北京特博萬德公司
Superjunction MOSFET英國進口—北京特博萬德公司
北京特博萬德科技有限公司獨家代理英國ICEMOSTECH的高品質SOI wafer和 SuperJunction MOSFET。
SOI wafer尺寸: 4”(100mm), 5”(125mm), 6”(150mm)and 8"(200mm)
SOI Spec. 規格:
1- Bonded SOI wafer (絕緣硅上鍵合硅片)
For 4”(100mm), 5”(125mm), 6”(150mm)
---- Handle wafer minimum 300um maximum 1000um,
---- Buried Oxide, minimum 0.1 um, maximum 4 um,
---- Device layer minimum 2 um, max 500 um.
For 8"(200mm)
---- Handle thickness minimum 500um and maximum 675um,
---- Buried Oxide minimum 0.1 um, maximum 4 um,
---- Device layer minimum 5 um, maximum 500 um.
2- Si-Si direct wafer bonding (replacement for epi) 硅-硅直接鍵合,可替代外延片
100mm, 125mm, 150mm and 200mm, thickness as specified above.
3- Engineered SOI, Double SOI (DSOI), Trench Isolation SOI (dielectric isolation),
Cavity SOI (for pressure sensor, gyro and accelerometer sensor, microfludic etc.)
and finally Through Silicon Via (TSV)
---- Cavity SOI - Bonded SOI or Silicon silicon DWB wafers with cavities performed within the wafer
---- Multiple SOI 2 or 3 or more layers of SOI designed around your process
---- Structured wafers silicon wafers or SOI with buried electrode layers, vias, interconnect already incorporated
4- SOI + Trench & Refill
Features
Significant die shrink compared to conventional dielectric isolation
(DI) or junction isolation
Bulk quality top silicon layer
Total device-to-device isolation
Lower substrate capacitance than bulk
Fully flexible specification on SOI, Trench and refill parameters
5- Superjunction MOSFET