XPS系統

Mg/Al 雙陽極 大面積測試 （4mm*10mm） FWHM≤0.8 eV，強度大於250 kcps 真空度優於10（-6）Pa 獨立的預處理室 氬離子濺射系統。 ^[1] 

X射線光電子能譜技術(XPS)是電子材料 與元器件顯微分析中的一種先進分析技術。可以準確地測量原子的內層電子束縛能及其化學位移，所以它不但為化學研究提供分子結構和原子價態方面的信息，還能為電子材料研究提供各種化合物的元素組成和含量， 化學狀態，分子結構， 化學鍵方面的信息。它在分析電子材料時，不但可提供總體方面的化學信息，還能給出表面，微小區域和深度分佈方面 的信息。 另外，因為 入射到樣品表面的X射線束是一種光子束，所以對樣品的破壞性非常小。這一點對分析有機材料和高分子材料非常有利。 ^[1]