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X射線光電子能譜儀
鎖定
X-射線
光電子能譜儀，是一種
表面分析技術，主要用來表徵
材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka =1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用
光電效應，激發樣品表面發射光電子，利用
能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據B.E=hv-K.E-W.F，進而得到激發電子的
結合能（B.E）。
- 中文名
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X射線光電子能譜儀
- 分辨率
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0.5cV
- 電子槍束斑
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75nm
- 靈敏度
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80KCPS
X射線光電子能譜儀主要用途
XPS：固體樣品的表面組成分析，
化學狀態分析，取樣訊息深度為～10nm以內. 功能包括:
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um
空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學態的深度分析（角分辨方式,,氬離子或
團簇離子刻蝕方式）
3. 線掃描或面掃描以得到
線或面上的元素或化學態分佈。
4. 成像功能。
X射線光電子能譜儀儀器類別
指標信息： 主
真空室：1×10-10 Torr XPS：0.5eV, AES: 分辨率：0.4%,
電子槍束斑：75nm , 靈敏度：1Mcps
信噪比：大於70:1 角分辨：5°～90°. A1/Mg雙
陽極靶 能量分辨率：0.5eV ,靈敏度：255KCPS, 使用
多通道檢測器（MCD）
