TFT-LCD原理與設計

本書基於TFT-LCD工廠生產的實踐，科學原理與工程應用相結合。介紹了TFT-LCD的基本概念，組成材料，工藝和設計流程等；列舉了高品質、低成本的設計理念和設計方法；最後在以低温多晶硅LTPS工藝為例，介紹中小尺寸，特別是便攜式TFT-LCD產品的發展。對一線技術人員及電子專業的學生具有重要的參考價值。 ^[2] 

TFT-LCD概述

1.1 TFT-LCD的發展

1.1.1 TFT-LCD發展簡史

1.1.2 TFT-LCD的競爭與趨勢

1.1 TFT-LCD的基本概念

1.2.1 產品相關的概念

1.2.2 光學相關的概念

1.3 TFT-LCD的結構與功能

彩色TFT-LCD基礎

2.1 色彩學基礎

2.1.1 光與色

2.1.2 光的亮度

2.1.3 色的座標

2.1.4 色的温度

2.1.5 TFT-LCD的彩色顯示

2.2 TFT器件基礎

2.2.1 TFT器件原理

2.2.2 TFT開關的特性要求

2.2.3 TFT開關特性的工藝設計

2.2.4 TFT開關特性的結構設計

2.3 液晶顯示基礎

2.3.1 液晶的基本結構與特性

2.3.2 液晶光學

2.3.3 液晶電學

2.3.4 液晶力學

2.3.5 液晶的顯示模式

TFT-LCD材料技術

3.1 玻璃基板

3.1.1 玻璃基板的製造技術與發展

3.1.2 玻璃基板的使用要求

3.2 ITO薄膜

3.3 配向膜

3.3.1 配向膜的材料技術

3.3.2 配向膜的特性要求

3.4 液晶材料

3.4.1 液晶的物理特性與分子結構設計

3.4.2 液晶材料的特性要求

3.5 Seal材

3.6 微粒子

3.6.1 球狀Spacer

3.6.2 纖維狀Spacer和金球Spacer

3.7 CF基板

3.7.1 CF的材料技術

3.7.2 CF的特性要求

3.7.3 CF的製造技術

3.8 偏光薄膜

3.8.1 偏光板

3.8.2 相位差板

3.8.3 寬視角補償膜

3.9 電路元件

3.10 背光源

3.10.1 光源

3.10.2 光學膜片

3.10.3 導光板

TFT-LCD工藝技術

4.1 陣列工藝技術

4.1.1 陣列工藝流程

4.1.2 洗淨工藝

4.1.3 Sputter成膜工藝

4.1.4 CVD成膜工藝

4.1.5 PR工藝

4.1.6 曝光工藝

4.1.7 濕刻工藝

4.1.8 幹刻工藝

4.1.9 陣列檢查工程

4.2 成盒工藝技術

4.2.1 配向膜成膜與配向

4.2.2 Spacer散佈與固着

4.2.3 封框膠與銀漿塗布

4.2.4 液晶滴下

4.2.5 真空貼合

4.2.6 封框膠硬化

4.2.7 玻璃切斷

4.2.8 偏光板貼付

4.2.9 成盒工程檢查

4.3 模塊工藝技術

4.3.1 OLB工程

4.3.2 PCB壓接

4.3.3 模塊組裝

4.3.4 老化實驗

4.3.5 模塊工程檢查

TN顯示原理與設計

5.1 TN顯示原理

5.1.1 TN顯示的光透過率

5.1.2 TN顯示的光學原理

5.1.3 TN顯示的電學原理

5.2 TN像素工作原理

5.2.1 TN像素基本結構

5.2.2 像素中的電容效應

5.2.3 配線延遲效應

5.2.4 灰階電壓寫入與保持

5.2.5 TN顯示的綜合效應

5.3 15XGA的顯示屏設計

5.3.1 預設計

5.3.2 陣列側像素設計

5.3.3 彩膜側像素設計

5.3.4 顯示屏周邊設計

5.3.5 顯示屏用Mark設計

5.4 15XGA的基板相關設計

5.4.1 基板用TEG與Mark設計

5.4.2 UV Mask與UVSheet設計

5.4.3 配向膜印刷版設計

IPS顯示原理與設計

6.1 IPS顯示原理

6.1.1 IPS顯示的光透過率

6.1.2 IPS顯示的光學原理

6.1.3 IPS顯示的電學原理

6.1 IPS技術的發展

6.2.1 從單疇結構到多疇結構

6.2.2 有機膜IPS技術

6.3 32HD顯示屏設計

6.3.1 S-IPS像素概要

6.3.2 SA-IPS像素概要

6.3.3 32HD像素設計

6.3.4 32HD顯示屏設計

6.4 FFS顯示原理與設計

6.4.1 FFS的電光學原理

6.4.2 FFS技術的發展

6.4.3 FFS的像素設計

6.5 IPS殘像機理與解決方案

6.5.1 IPS殘像機理

6.5.2 離子型不純物分析

6.5.3 殘留DC分析

6.5.4 線殘像的機理與對策

VA顯示原理與設計

7.1 VA顯示原理

7.1.1 VA顯示的光透過率

7.1.2 VA顯示的光學原理

7.1.2 VA顯示的電學原理

7.2 不同VA技術的發展

7.2.1 MVA技術的發展

7.2.2 PVA技術的發展

7.2.3 CPA技術的發展

7.2.4 新型VA顯示技術

7.3 VA的色偏機理與對策

7.3.1 VA的色偏機理與評價

7.3.2 色偏的改善技術

7.4 46FHD顯示屏設計

7.4.1 46FHD像素的預設計

7.4.2 46FHD像素的詳細設計

7.4.3 46FHD顯示屏的整體設計

7.4.4 46FHD顯示屏拼接曝光設計

TFT-LCD驅動技術與設計

8.1 TFT-LCD驅動原理

8.1.1 驅動原理簡介

8.1.2 驅動方式

8.1.3 階調增強技術

8.2 TFT-LCD電路技術

8.2.1 電源電路

8.2.2 時序控制電路

8.2.3 數據驅動電路

8.2.4 掃描驅動電路

8.2.5 接口電路

8.3 TFT-LCD電路設計

8.3.1 電路設計概要

8.3.2 電路原理圖設計

8.3.3 PCB版圖設計

8.3.4 COF設計

8.3.5 伽瑪設計與調節

TFT-LCD結構技術與設計

9.1 結構技術與設計概要

9.1.1 結構技術概要

9.1.2 結構設計概要

9.2 OPEN CELL結構設計

9.3 背光源結構設計

9.3.1 後板金設計

9.3.2 導光板設計

9.3.3 光學膜片設計

9.3.4 燈管設計

9.3.5 燈管反射罩和電源線設計

9.3.6 LED光源的結構設計

9.4 模塊結構綜合設計

9.4.1 組裝設計

9.4.2 強度設計

9.4.3 散熱與防塵設計

9.4.4 電學設計

9.4.5 光學設計

9.4.6 安全性設計

高品質和低成本設計

10.1 面向光學規格的高品質設計

10.1.1 高亮度設計

10.1.2 高對比度設計

10.1.3 高響應速度設計

10.2 面向特殊畫質的高品質設計

10.2.1 閃爍機理與設計對策

10.2.2 串擾機理與設計對策

10.2.3 顯示不均機理與設計對策

10.3 合格率設計

10.3.1 工程檢查及相關設計

10.3.2 ESD改善設計

10.3.3 點缺陷修復設計

10.3.4 線缺陷修復設計

10.4 低成本設計

10.4.1 4MASK設計

10.4.2 省UV MASK設計

10.4.3 低材料成本設計

LTPS TFT-LCD原理與設計

11.1 LTPS TFT原理與設計

11.1.1 LTPS TFT器件基礎

11.1.2 LTPS TFT特性設計

11.1.2 LTPS TFT工藝技術

11.2 LTPS TFT-LCD周邊電路集成設計

11.2.1 模擬輸入電路集成設計

11.2.2 DAC內置電路集成設計

11.3 半透過型LTPS TFT-LCD原理與設計

11.3.1 半透過型LTPS TFT-LCD

11.3.2 半透過型TFT-LCD的反射光學設計

11.3.3 半透過型TFT-LCD的偏光光學設計