-
四氟化碳
鎖定
四氟化碳,又名四氟甲烷,化學式為CF4,它既可以被視為一種鹵代烴(有機物),也可以被視為一種無機化合物,常温常壓下為無色氣體,不溶於水,溶於苯和氯仿,主要用於各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體、低温製冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
- 中文名
- 四氟化碳
- 外文名
-
Carbon tetrafluoride
R14 - 別 名
-
四氟甲烷
全氟甲烷 - 化學式
- CF4
- 分子量
- 88.004
- CAS登錄號
- 75-73-0
- EINECS登錄號
- 200-896-5
- 熔 點
- -184 ℃
- 沸 點
- -130 ℃
- 水溶性
- 不溶
- 外 觀
- 無色氣體
- 安全性描述
- S38
- 危險性符號
- F
四氟化碳理化性質
熔點:-184℃
沸點:-130℃
臨界温度:-45.5℃
臨界壓力:3.74MPa
折射率:1.113(-53ºC)
飽和蒸氣壓:13.33kPa(-150.7℃)
外觀:無色氣體
四氟化碳分子結構數據
摩爾折射率:7.3
摩爾體積(cm3/mol):66.8
等張比容(90.2K):105.0
表面張力(dyne/cm):6.0
四氟化碳計算化學數據
疏水參數計算參考值(XlogP):1.8
氫鍵供體數量:0
氫鍵受體數量:4
可旋轉化學鍵數量:0
互變異構體數量:0
拓撲分子極性表面積:0
重原子數量:5
表面電荷:0
複雜度:19.1
同位素原子數量:0
確定原子立構中心數量:0
不確定原子立構中心數量:0
確定化學鍵立構中心數量:0
不確定化學鍵立構中心數量:0
四氟化碳用途
主要用於各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體、低温製冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
四氟化碳儲存方法
儲存於陰涼、通風的不燃氣體專用庫房。遠離火種、熱源。庫温不宜超過30℃。應與易(可)燃物、氧化劑分開存放,切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。
- 參考資料
-
- 1. 四氟化碳 .化學+[引用日期2022-05-28]