OAW

在傳統磁盤技術發展的上存在一個“超順磁極限”。傳統磁記錄驅動器的面記錄密度越來越大，當它達到20～40Gb/平方英寸時，磁盤上的磁介質就無法保持穩定的磁疇，這就是傳統磁盤技術發展的理論極限。但信息技術發展對信息存儲的要求卻沒有極限。著名硬盤廠商Seagate就大力開發下一代的存儲解決方案，名曰光助温盤（OAW）技術。OAW技術達到的面記錄密度遠高於今天的硬盤驅動器，最終將突破超順磁極限即傳統磁技術的面記錄密度的理論極限。OAW技術在驅動器業界首次把光技術、磁技術和通信技術集成在一起，構成新一類的經濟實惠的高容量驅動器產品。預計在下一個10年之初，OAW技術就能突破超順磁級所限制的驅動器性能。OAW系統由：先進的光輸送系統、獨特的磁頭設計、全新的伺服系統、等新一代記錄介質子系統組成。總而言之，OAW技術是一種可靠實用的技術，可望成為下世紀提高磁盤記錄密度的新手段。

獨特的磁頭設計

獨特的磁頭設計集成了先進的磁頭技術和微透鏡。微透鏡把光纖送來的光脈衝聚集到磁盤介質表面上。這些透鏡的直徑小於350微米，比以前的透鏡小几倍。它們不僅能夠使激光精細地聚集於磁盤介質表面上，而且在磁頭飛行高度發生變化時能夠進行寬範圍的自適應調節。

伺服系統

制動器的端部安裝了微機械(MEMS)的反射鏡，其面積比針尖還小，制動臂上的光纖經物鏡發出的光脈衝由這些反射鏡反射後投射到磁盤介質表面上。在電流的作用下，反射鏡會發生偏轉，從而改變激光在磁盤介質表面上的投射位置。因此，在制動臂不動的情況下可以非常精細地進行調節，使激光點從一個磁跡移到另一個磁跡。採用這樣的伺服系統之後，磁跡密度可達到10萬條磁跡/英寸。

新一代記錄介質

OAW系統中的介質結構類似於傳統温盤介質，但基片可以使用塑料。塑料比傳統温盤驅動器使用的鋁基輕，又便宜。此外，由於採用塑料基片，OAW介質可以預先進行格式化，使之含有伺服圖形。OAW所用的磁層結構是由非液態稀土過渡金屬組成。這些金屬的理論記錄密度遠高於常規的温盤磁記錄介質。由於這種介質的磁層是非晶態結構，而不是常規介質的晶體結構，又由於OAW技術採用縱向記錄方式而不是橫向記錄方式，所以這種介質不存在常規温盤磁記錄介質的超順磁極限。