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APCVD

鎖定
APCVD即常壓化學氣相澱積，是指在大氣壓下進行的一種化學氣相澱積的方法，這是化學氣相澱積最初所採用的方法。這種工藝所需的系統簡單，反應速度快，但是均勻性較差，台階覆蓋能力差，所以一般用於厚的介質澱積。
中文名
常壓化學氣相澱積
外文名
APCVD
類    型
大氣壓下一種化學氣相澱積方法
除了常壓化學氣相澱積（APCVD）之外，還有低壓化學氣相澱積（LPCVD）,等離子體增強型澱積（PECVD）。在芯片製造過程中，大部分所需的薄膜材料，不論是導體、半導體，或是介電材料，都可以用化學氣相澱積來製備。