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麥克斯·別雷克

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麥克斯·別雷克(Max Berek. 1886年-1949年)波蘭光學設計家。
[1] 
中文名
麥克斯·別雷克
外文名
Max Berek
國    籍
德國
民    族
波蘭
出生地
波蘭
出生日期
1886年
逝世日期
1949年
畢業院校
柏林礦物學院
職    業
光學設計家
代表作品
Grundlagen der praktischen Optik(實用光學基礎)
主要成就
光學設計

目錄

麥克斯·別雷克人物生平

別雷克簽名 別雷克簽名
麥克斯·別雷克(Max Berek. 1886年-1949年)波蘭光學設計家。1886年8月16日生於有“波蘭煤都”之稱卡托維茲市附近的拉席波爾茲鎮(Racibórz)。他早年對晶體物質感到興趣。中學畢業後,在霍茹夫工作。後入柏林大學攻讀礦物學,1910年任柏林礦物學院任助教,1911年獲晶體光學學博士學位。1912年應恩斯特.萊茲廠之聘,成為光學設計師,他在萊茲廠工作37年。別雷克兼任德國馬爾堡大學(Philipps-Universität Marburg)教授。1949年10月15日別雷克在德國勃蘭登堡州弗賴堡逝世 [1] 

麥克斯·別雷克主要成就

SUMMITAR  50/2  鏡頭 SUMMITAR 50/2 鏡頭
他的研究重點是顯微鏡理論,尤其是礦物學中應用的偏振光顯微鏡 [1] 
麥克斯·別雷克的貢獻包括: [2] 
Hektor 135mm/4.5(1934)
Thumbar 90mm/2/2 (1935)
Elmar 50mm/3.5 (1925),135mm/4.5(1931),35mm/3.5(1931)
Summitar 50mm/2 (1939)

麥克斯·別雷克論文

Theorie der Anisotropieeffekte zwischen gekreuzten Nicols im Auflich [1] 
Ein mikroskopisches Verfahren zur Bestimmung der komplexen Brechungsindizes für homogene Lichtwellen in optisch isotropen und anisotropen basorbierenden Medien

麥克斯·別雷克專著

Max Berek,GRUNDLAGEN DER PRAKTISCHEN OPTIK [1] 
麥克斯·別雷克著 《實用光學基礎》 麥克斯·別雷克著 《實用光學基礎》

麥克斯·別雷克專利

麥克斯·別雷克獲得多項鏡頭設計的美國專利 [1] 
1933年 12月 12日 Light Intensive Objective
1939 年6月27日 Photographic Objective
1939年9月5日 Photographic Objective
1940年3月5日 Optical Polarization System
1942年9月29日 Photographic Objective
參考資料
  • 1.    Rudolf Kingslake.A History of Photographic Lens.波士頓:ACADEMIC PRESS,1989:p205
  • 2.    Rudolf Kingslake.A History of Photographic Lens.波士頓:ACADEMIC PRESS,1989:p113