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高真空技術

鎖定
真空是指在指定空間內低於環境大氣壓力的氣體狀態,也就是該空間氣體分子數密度低於該地區大氣壓的氣體分子數密度。
中文名
高真空技術
適用領域
電真空器件、加速器、儲能環、蒸發鍍膜、電子束加工

高真空技術高真空

不同的真空狀態,就意味着該空間具有不同的分子數密度。高真空是指氣體壓力範圍在10~10Pa 的真空區域。在該範圍內分子數密度約為10cm, 處於過渡流-分子流狀態,分子平均自由程約為10m。

高真空技術獲得方法

真空的獲得通過真空泵來實現。常用的高真空泵有擴散泵、分子泵、濺射離子泵、低温泵等。這些泵不能直接對大氣抽氣,需要用其它的泵抽到一定真空度後才能工作,抽預備真空的泵也叫預抽泵或前級維持泵。

高真空技術測量儀表

用來測量真空度或氣體壓力的儀器叫真空計。測量高真空的真空計通常採用將氣體分子電離的方法來進行測量,高真空計主要有電離規、BA規、轉子規等。

高真空技術技術應用

在高真空中由於分子平均自由程大於容器線度,可以避免分子間的碰撞,通常用於電真空器件、加速器、儲能環、蒸發鍍膜、電子束加工等。