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面內雲紋法

鎖定
實驗應力分析方法,屬雲紋法的一種,用於測量試件表面的試件平面內的位移分量。
中文名
面內雲紋法
外文名
in-planemoirémethod

面內雲紋法基本原理

圖1  四孔圓盤徑向受壓的雲紋圖 圖1 四孔圓盤徑向受壓的雲紋圖
把柵片牢固地粘貼在試件(模型或構件)表面,當試件受力而變形時,柵片也隨之變形。將不變形的柵板疊加在柵片上,柵板和柵片上的柵線便因幾何干涉而產生條紋(圖1),即雲紋(又稱疊柵條紋)。雲紋法就是測定這類雲紋並對其進行分析,從而確定試件的位移場或應變場。 [1] 

面內雲紋法基本方法

用面內雲紋法測量試件變形,需要兩塊柵:一塊是將柵線印製在試件的表面,隨試件一起變形的試件柵;另一塊是不隨試件變形的參考柵(或稱分析柵)。將這兩塊柵互相接觸重疊,就會因干涉而形成雲紋。如進行非接觸式測試,須通過透鏡。使一塊柵成像於另一塊柵的平面上,形成幹渉條紋。 [2] 

面內雲紋法理論計算

圖2  用虛線表示參考柵主方向的等位移線 圖2 用虛線表示參考柵主方向的等位移線
圖2所示參考柵的節距為p,和它等節的試件柵,在試件受載前,位置和參考柵重合,在試件受載後,有任意的二維變形,即各點有不均等的柵線轉角及節距變化。如圖可見,任一亮條紋所經過的各柵線交點處,其柵線序數的差值為常數,與(1)符合。還可看出,在N=0,1,2,…諸條紋上的試件柵各點,分別有沿參考柵主方向(與柵線方向垂直)的位移0,1p,2p。沿參考柵的主方向取為x軸,並以u表示x方向的位移,則
u=Np, N=0,1,2,...(2)
隨着兩組平行柵之間的柵線夾角逐漸增大,所形成的干涉條紋會不斷增密。柵線夾角大於30°,條紋因過密而變成灰色背景,目力已難以分辨。利用這種現象,通常可採用由兩組互相正交的平行柵線構成的正交柵作為試件柵,參考柵則可用平行柵。當它轉至某適當位置時,只能和試件柵的某一組柵線形成易辨認的干涉條紋。再將參考柵轉動90°,則可與試件柵的另一組柵線形成清晰的干涉條紋。設試件柵為正交柵,其中一組柵線在變形前平行於x軸,變形後與主方向沿y軸的參考柵相干涉,以N′表示條紋級數,則可得出y方向的位移v為:
v=NpN′=0,1,2,… (3)
上面得到的兩幅雲紋圖,分別表示沿參考柵主方向的位移場,即u位移場和v位移場。每一條紋表示沿參考柵主方向的等位移線。相鄰的條紋,其位移相差一個節距。
由(2)和(3)求偏導數,可得:
,
,
(4)
小變形時的應變分量為:
由(4)和(5)得:
大應變時的各應變式,還須包括(4)中偏導數的高次項。
圖3  對位移求導作圖法 圖3 對位移求導作圖法
根據上面的應變式,試件各點應變的大小也可用作圖法求出。圖3a的雲紋圖表示位移場u。計算圖上A點應變狀態的步驟如下:
通過A點作平行於x軸和y軸的直線,根據其和各條紋相交的位置和相應的條紋級數,分別繪出位移曲線(圖3b和3c)。測出這兩條曲線上對應於A點的切線傾角θ和θ’,其正切就分別等於
。按照同樣的步驟,從表示位移場v的雲紋圖可得出
。將這些偏導數值代入(6),就可算出A點的應變狀態。由於條紋級數的遞增或遞減將確定位移曲線斜率的正負,亦即將確定應變的正負(表示伸長或縮短),因此為了確定應變的符號,在上述步驟中還須另加確定條紋級數的方法。

面內雲紋法應用注意事項

上面所説的是採用等節的參考柵和試件柵的雲紋法。這種方法在柵線密度為每毫米數十條線的通常情況下,只適用於測量塑性變形或較大的彈性變形。
如要測量較小的應變,又要條紋不致過稀,以免影響位移(對xy)的準確求導,則須採用高密度的柵線。或利用準直相干光通過柵線時所產生的衍射效應,可使低密度的柵線倍增為高密度的柵線。

面內雲紋法發展趨勢

雲紋法的主要發展趨向是:運用不同的光學手段和信息處理技術,提高應變測量的靈敏度和準確度;實現位移數據的採集和處理,以及算出應變值等過程的自動化和計算機化。在測量中,趨向於綜合運用雲紋法和其他實驗應力分析方法,以便兼取各法的優點,例如雲紋法和光彈性貼片法的結合,和散斑法的結合等。此外雲紋法和全息照相的結合,則已發展成一種新的實驗應力分析方法——全息雲紋法。 [3] 
參考資料
  • 1.    P. S. Theocaris.Moiré Fringes in Strain Analysis.Oxford:Pergamon Press,1969
  • 2.    A. S. Kobayashi.Manual on Experimental Stress Analysis.Westport:Society for Experimental Stress Analysis Pub,1978
  • 3.    方萃長.《中國大百科全書·力學》 (第一版):中國大百科全書出版社,1985:567-568