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非平衡磁控濺射
鎖定
非平衡磁控濺射是2011年公佈的材料科學技術名詞。
- 中文名稱
- 非平衡磁控濺射
- 英文名稱
- unbalanced magnetron sputtering
- 定 義
- 磁控靶邊緣的磁力線呈發散狀直達基底表面，在基底表面形成大量離子轟擊，直接干預基底表面濺射成膜的過程。
- 應用學科
- 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科）
以上內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公佈
非平衡磁控濺射定義
磁控靶邊緣的磁力線呈發散狀直達基底表面，在基底表面形成大量離子轟擊，直接干預基底表面濺射成膜的過程。
非平衡磁控濺射出處
《材料科學技術名詞》。
- 參考資料
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- 1. 非平衡磁控濺射 ．術語在線[引用日期2022-11-26]
