電子束蒸發

電子束蒸發法是真空蒸發鍍膜的一種，是在真空條件下利用電子束進行直接加熱蒸發材料，使蒸發材料氣化並向基板輸運，在基底上凝結形成薄膜的方法。在電子束加熱裝置中，被加熱的物質放置於水冷的坩堝中，可避免蒸發材料與坩堝壁發生反應影響薄膜的質量，因此，電子束蒸發沉積法可以製備高純薄膜，同時在同一蒸發沉積裝置中可以安置多個坩堝，實現同時或分別蒸發，沉積多種不同的物質。通過電子束蒸發，任何材料都可以被蒸發。 ^[2] 

電子束蒸發可以蒸發高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、 束流密度大、蒸發速度快，製成的薄膜純度高、質 量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應用於製備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。 ^[2] 

電子束蒸發的特點是不會或很少覆蓋在目標三維結構的兩側，通常只會沉積在目標表面。這是電子束蒸發和濺射的區別。

常見於半導體科研工業領域。利用加速後的電子能量打擊材料標靶，使材料標靶蒸發升騰。最終沉積到目標上。