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電子束蒸發源
鎖定
在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。
- 中文名
- 電子束蒸發源
- 外文名
- evaporatorwith electron beam
電子束蒸發源基本內容
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環行)、由電子發射源(通常是熱的鎢陰極作電子源)、電子加速電源、坩堝、磁場線圈、冷卻水套等組成。膜料放入水冷增禍中,電子束自源發出,用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉,對膜料進行轟擊和加熱。
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e型電子束蒸發源所發射的電子軌跡與“e” 相似,故有“e”型束源之稱,簡稱e 型槍。它主要由發射體組件( 電子槍) 、偏轉磁極靴及電子線圈、水冷坩堝及換位機構、散射電子及離子收集極等部分組成。
[2]
電子束蒸發源應用
電子束蒸發是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從表面汽化逸出後入射到基片表面凝結成膜。