電子束光刻

電子束光刻，利用電子束在塗有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫或投影複印圖形的光刻技術。 電子抗蝕劑是一種對電子敏感的高分子聚合物。經過電子束掃描過的電子抗蝕劑發生分子鏈重組，使曝光圖形部分的抗蝕劑發生化學性質改變，經過顯影和定影，獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形。現代的電子束光刻設備已經能夠製作小於10納米的精細線條結構，也可製作光學掩模版。 ^[1]