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電子束光刻機
鎖定
電子束光刻機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2017年10月27日啓用。
- 中文名
- 電子束光刻機
- 產 地
- 荷蘭
- 學科領域
- 電子與通信技術
- 啓用日期
- 2017年10月27日
- 所屬類別
- 工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備
電子束光刻機技術指標
最小束斑不大於1.9nm；最小步長為0.1nm；主場畸變不大於±10nm @500um寫場；最小線寬：≤ 8nm @100kV； 拼接精度：100um寫場下，拼接精度不大於12nm；250um寫場下，拼接精度不大於15nm；500um寫場下，拼接精度不大於20nm；1000um寫場下，拼接精度不大於30nm； 套刻精度:100um寫場下，套刻精度不大於10nm；250um寫場下，套刻精度不大於15nm；500um寫場下，套刻精度不大於20nm；1000um寫場下，套刻精度不大於30nm。
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電子束光刻機主要功能
- 參考資料
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- 1. 電子束光刻機 ．國家科技基礎條件平台中心[引用日期2020-11-16]
