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離軸照明

鎖定
離軸照是1989年光刻專家提出的離軸照明技術,並得到了很好的發展,已經得到了廣泛應用。離軸照明的原理是通過改變照明光入射到掩模上的入射角,達到擴展投影系統截止頻率對應的圖形尺寸,從而提高光刻系統分辨率的目的 [1] 
中文名
離軸照明
外文名
Off-axis Illumination(OAI)
如圖1所示,在採用離軸照明的曝光系統中,掩模上的照明光線都與投影物鏡主光軸有一定的夾角。入射光經掩模發生衍射,左側光源的0級,-1級衍射光與右側光束的+1級,0級衍射光參與成像 [2] 
圖1 兩種照明方式的光路對比 圖1 兩種照明方式的光路對比
離軸照明實際上是一種兩束光成像技術,即通過調整光線在掩模上的入射角,只有兩束(0,+1或-1)衍射光被投影透鏡收集,並在晶圓表面成像,離軸照明的特點是沒有沿主光軸方向傳播的光。環形照明,四級照明和二級照明都屬於離軸照明。 [3]  研究表明,離軸照明是一種很有效的光刻分辨增強技術。離軸照明最大的優點是能提高聚焦深度;離軸照明最大的問題是,所收集的衍射光束是不對稱的,0級衍射光的光強遠大於+1和-1級衍射光 [4] 
參考資料
  • 1.    韋亞一.計算光刻與版圖優化:電子工業出版社,2021:86-87
  • 2.    光學光刻中的離軸照明技術,郭立萍,中國科學院上海光學精密機械研究所,2005年,23-23
  • 3.    韋亞一.計算光刻與版圖優化:電子工業出版社,2021年:51-52
  • 4.    超大規模集成電路先進光刻理論與應用  .豆瓣.2016.5[引用日期2017-10-29]