離子濺射

離子濺射，一種物理氣相沉積的方法。在真空室內通入（0.1～1.0）×106帕的惰性氣體（如氬），使之在高壓下輝光放電，氣體離子在強電場作用下轟擊膜料製成的陰極靶，使表面的原子被濺射出來，沉積在基體上成膜。 ^[1]