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離子束濺射
鎖定
離子束濺射(IBS)，也稱為離子束沉積(IBD)，是一種薄膜沉積工藝，使用離子源，將靶材（金屬或電介質）沉積或濺射到基片上，以形成金屬或電介質膜。因為離子束是等能的（離子具有相等的能量），且高度準直，所以與其他PVD（物理氣相沉積）技術相比，其能夠精確地控制厚度，並沉積非常緻密的高質量薄膜。
- 中文名稱
- 離子束濺射
- 英文名稱
- ion beam sputtering
- 定 義
- 利用離子源產生一定能量的離子束轟擊置於高真空中的靶材，使其原子濺射出來，沉積在基底成膜的過程。
- 應用學科
- 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科）
以上內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公佈
- 中文名
- 離子束濺射
- 別 名
- 離子束沉積
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