集成度

集成電路的線寬通常可理解為所加工的電路圖形中最小線條寬度，但在MOS電路中，人們也常用柵極長度來定義線寬。集成度與線寬有對應關係，即集成度越高，線寬越小，所以，線寬也常用來表示集成電路製造技術水平的高低。

隨着大規模集成電路和超大規模集成電路的發展，人們對光刻分辨率的要求愈來愈高。1995年為0.35μm，1998年為0.18μm，現在努力的方向是0.18μm，接着就是0.13μm。很顯然原有的光刻工藝已不能滿足要求，

一個系統的集成度，是指由系統整體所劃分出的子系統的規模與複合程度。

集成度越高，計算簡單，包含的信息量越少；集成度越低，系統分析計算的模型越複雜，包含的內容也越多，分析更徹底。通常根據需要來選取適當的集成度。