陶瓷薄膜

陶瓷薄膜是指用特殊工藝技術，將陶瓷材料製成厚度在幾微米以下而仍能保持陶瓷優越性能的一類陶瓷材料 ^[1]  。

陶瓷薄膜製備方法可分為兩大類：

(1)物理方法，包括真空熱蒸發、直流和射頻濺射(包括離子束濺射)，激光蒸發以及分子束外延技術；

(2)化學方法，包括噴霧熱解、化學氣相沉積(CVD)、溶膠-凝膠(Sol-Gel)及金屬有機氣相沉積(MOCVD)法等。

每種方法均要求在基片上提供合適的原子流以便使需要的成分的薄膜在基片表面上可控生長。各種製備方法均各有其長處和短處，但可以根據不同的材料對象和應用目標選擇適宜的工藝技術 ^[1]  。

常見的陶瓷薄膜有高介電常數的鈦酸鋇薄膜、鈦酸鉛薄膜。可用於製造大容量的薄膜電容器。摻鑭的鍶鋇鈦酸鹽薄膜，可製成熱敏電阻輻射熱測量器。鈮酸鍶鋇薄膜，可製成熱釋電探測器；鈦酸鉍薄膜，可製成鐵電顯示器。釔鋇銅氧薄膜，可製成超導體用。氧化鋁薄膜、氧化鋯薄膜、氧化鈦薄膜，可作為固-液分離膜使用。

隨陶瓷材料及其應用的發展，尤其是功能陶瓷與半導體集成技術的進步，不但要求陶瓷薄膜仍能保持塊體材料的優良性能，而且在薄膜的微結構、定向性等方面有更高的要求。

納米陶瓷材料不僅比普通工程陶瓷材料具有更高的硬度，而且擁有其不具備的韌性，克服了陶瓷材料脆性大的缺點。擁有良好塑性的納米陶瓷材料可以進行擠壓和扎制。由於對納米陶瓷材料寄以厚望，十多年來，全世界範圍內的陶瓷研究者們在納米陶瓷的製造工藝技術上投入了大量的精力，雖然在技術上取得了巨大的研究成果，但是要大量生產納米陶瓷材料，在工藝方法上是非常困難的 ^[2]  。