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鍍膜設備

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鍍膜設備是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2010年12月17日啓用。
中文名
鍍膜設備
產    地
中國
學科領域
材料科學
啓用日期
2010年12月17日

目錄

  1. 1 技術指標
  2. 2 主要功能

鍍膜設備技術指標

樣品顆粒粒度：3μm~100μm。 [1] 

鍍膜設備主要功能

能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜（包括磁性金屬膜）、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜緻密、均勻、純度高、附着力強等。 [1] 
參考資料