-
金屬硅化物
鎖定
金屬硅化物是指過渡金屬與硅生成的硬質化合物。由於硅原子半徑較大,不能與過渡金屬生成間隙化合物,因而這類硬質化合物化學成分穩定金屬硅化物具有好的抗氧化性。
金屬硅化物簡介
金屬硅化物是指過渡金屬與硅生成的硬質化合物。
金屬硅化物原理
金屬硅化物用途
由於硅與氧生成緻密氧化膜,能夠阻止氧在常温和高温對過渡金屬發生氧化作用,因此,硅化物可以作為保護層。多在超大規模集成電路中使用,如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等。
金屬硅化物特性
硅化物熔點不高,熱導率高,而抗熱震性好,硬度較高,但脆性也大,有金屬光澤,電阻率低。用途最多的硅化物是MoSi,熔點2030℃,硬度HV1250,抗壓強度2310MPa,MoSi2發熱體發熱温度為1600℃,可長期使用,是空氣氣氛中温度最高的發熱體之一,用自蔓延鋁熱法制造的彌散Al2O3,質點的MoSi2發熱體,使用温度可達1800℃,金屬、金屬氧化物加碳和硅反應,可製得硅化物
[2]
。
金屬硅化物分類
常分成兩大類:
(1)難熔金屬硅化物,指週期表IVB、VB、VIB族元素的硅化物,如硅化鈦、硅化鋯、硅化鉭、硅化鎢等;
(2)貴金屬和近貴金屬硅化物,如硅化鈀、硅化鉑、硅化鈷等。
其共同特點是:熔點高(大都在1500℃以上),最低共熔温度高(大都在1000℃以上)。電阻率低(約為10-7Ω·m),硬度高。
金屬硅化物製備方法
製備方法主要是用澱積金屬與硅的混合物燒結而成。澱積法主要有:蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等
[3]
。