金剛石薄膜

金剛石薄膜，20世紀80年代中後期迅速發展的一種優良的人工製備材料。通常以甲烷、乙炔等碳氫化合物為原料，用熱燈絲裂解、微波等離子體氣相澱積、電子束離子束轟擊鍍膜等技術，在硅、碳化硅、碳化鎢、氧化鋁、石英、玻璃、鉬、鎢、鉭等各種基板上反應生長而成。不僅具有金剛石的硬度，還有良好的導熱性、良好的從紫外到紅外的光學透明性和高度的化學穩定性。在半導體、光學、航天航空工業、大規模集成電路等領域有廣泛的應用前景，已在硬質切削刀具、X射線窗口材料、貴重軟質物質保護塗層等方面應用。 ^[1]