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軟X射線譜學顯微線站
鎖定
軟X射線譜學顯微線站是一種用於物理學、化學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器，於2010年1月10日啓用。
- 中文名
- 軟X射線譜學顯微線站
- 產 地
- 中國
- 學科領域
- 物理學、化學、材料科學、能源科學技術
- 啓用日期
- 2010年1月10日
- 所屬類別
- 分析儀器 > X射線儀器
軟X射線譜學顯微線站技術指標
光源類型 波盪器 能量範圍 85 150eV 樣品處光通量 1x014phs/s/cm2@300mA@92eV 掩膜處光斑尺寸 3×3mm2 (H × V) 干涉條紋週期 100nm 單次曝光尺寸 0.4x0.4mm2。
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軟X射線譜學顯微線站主要功能
- 參考資料
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- 1. 軟X射線譜學顯微線站 ．國家科技基礎條件平台中心[引用日期2021-01-15]
